판매용 중고 MRC 902 #9171689

MRC 902는 박막 증착을 위해 설계된 고급 스퍼터링 장비입니다. 직류 (DC) 또는 무선 주파수 (RF) 전원을 사용하여 활기 넘치는 이온을 함유 한 건조 플라즈마를 생성하고, 이어서 기판 및 대상 재료 표면에 영향을 주어 스퍼터링을 유발합니다. 902 스퍼터링 시스템은 진공실, 목표 보유자, 기판 보유자 및 전원 공급 장치로 구성됩니다. 진공 챔버 (vacuum chamber) 는 스퍼터링 프로세스가 진행되는 장치의 주요 챔버입니다. 그것 은 밀수 되어 있어야 하며, 진공 상태 를 달성 하고 유지 할 수 있어야 한다. 표적 "홀더 '는" 스퍼터링' 표적 재료 를 가지고 있는데, 그것 은 원하는 박막 재료 에 따라 성분 이 다를 수 있다. 기판 "홀더 '는 얇은" 필름' 을 증착 할 기판 을 보관 하는 데 사용 된다. 전원 공급 장치는 플라즈마를 생성하는 데 사용되는 전원 공급원입니다. DC 또는 RF 일 수 있습니다. 이 기계에는 추가 내부 산소 압력 컨트롤러 (in-situ oxygen pressure controller) 가 있으며, 이는 스퍼터링 과정에서 산소 압력을 조정하여 필름 품질을 높일 수 있습니다. 균일 한 박막 증착 (thin film deposition) 을 보장하기 위해, 표적은 회전 가능한 방패에 장착되어 기판에 균일 한 커버리지를 제공합니다. 스퍼터링 과정을 시작하기 위해서는 진공실을 대피해야합니다. 두 가지 "펌프 '가 사용 된다. 저압 에 도달 하기 위한 황삭" 펌프' 와 압력 을 더 감소 시키기 위한 확산 "펌프 '가 있다. 압력이 충분히 낮으면 전원 공급 장치 (Power Supply) 를 사용하여 챔버 내부에 플라즈마를 생성합니다. 그 다음 "플라즈마 '의 활력 이 넘치는" 이온' 은 기질 과 표적 에 충격 을 주어 "스퍼터링 '을 일으킬 수 있다. 스퍼터 된 물질은 승화시킨 다음 기질에서 응축되어 박막을 형성합니다. 이 프로세스는 기계적으로 조정할 수 있으며, 사용자가 쉽게 사용할 수 있습니다. 공구에는 자동 제어 에셋 (Automatic Control Asset) 이 장착되어 있어 사용자가 스퍼터링 매개변수 (예: 전압, 전류) 를 쉽게 조정할 수 있습니다. 또한 데이터 로깅 모델 (data logging model) 을 사용하여 프로세스를 실시간으로 모니터링하고 변경 사항을 기록할 수 있습니다. MRC 902 스퍼터링 장비는 박막 증착을위한 훌륭한 플랫폼을 제공합니다. 전도성 (conductive), 광학 (optical), 보호용 박막 (protective thin film) 등의 다양한 응용 프로그램에 적합합니다. 에너지 효율적이며 뛰어난 특성을 가진 균일 하고 균일 한 박막 코팅을 생성합니다.