판매용 중고 MRC 8620 #293605798

제조사
MRC
모델
8620
ID: 293605798
PVD Sputtering system Type: 8620 SYS RF Diode target, 2"-5" 5" Targets: (2) Copper, Chromium, Platinum, Tantalum, Titanium, Ti/Tungsten, Tungsten 3" US gun source with 1kW US gun II with DC power supply Diffusion pump (Dow 705 oil drained) LN2 cold trap MKS 270 Pressure meter MKS 390AH-00001 1 torr baratron URS-100 gas flow controller TERRANOVA 934 Vacuum gauge controller 100sccm Ar MFC 50 sccm N2 MFC Roughing pump not included Power supply: 208 V, 3 Phase, 40 Amp, 60 Hz.
MRC 8620 (MRC 8620) 은 재료 연구, 표면 엔지니어링 및 기타 다양한 기술 분야에서 물리적 증기 증착 (PVD) 응용 분야에 사용되는 고급 고성능 스퍼터링 장비입니다. 스퍼터링 시스템에는 가변 압력, 온도, 전압 및 전류를 포함하여 광범위한 프로세스 유연성을 제공하는 8 대상, 가변 각도, 마그네트론 기반 구성이 있습니다. 이 장치는 튼튼한 스테인리스 스틸 챔버, 진공 작동 게이트 및 소스로 제작되었습니다. 또한 사이클 시간이 3 분 미만인 장수 확산 펌프 (long-life diffusion pump) 와 빠른 사이클 시간을 위해 터보 분자 황삭 펌프 (turbomolecular roughing pump) 가 특징입니다. 고정밀 온도 및 가스 컨트롤러는 증착 중 온도 및 압력을 정확하게 제어합니다. 고급 제어 인터페이스 (Advanced Control Interface) 는 직관적인 작업을 용이하게 하며 프로세스 복제를 용이하게 하기 위해 최대 1000 개의 레시피를 저장할 수 있습니다. 8620 은 금속 과 합금, 산화물, 질화물, 중합체 등 매우 다양 한 물질 을 광범위 한 기질 에 침착 시킬 수 있습니다. 그 중 에는 "깨어라!" 스퍼터링 대상, 보호 코팅 (예: 부식 보호), 반사 방지 코팅, 투명 전도성 산화물 등 다양한 응용 분야에 대한 필름 두께, 구성 및 곡물 크기를 정확하게 제어 할 수 있습니다. 높은 전원으로 MRC 8620은 높은 증착을 제공 할 수 있습니다. 8 개의 독립적 인 소스 각각은 활성 자기장 머신 (magnetic field machine) 을 특징으로하며, 이를 통해 프로세스 매개변수를 빠르게 램프하고 정확하게 제어 할 수 있습니다. RF 전원은 프로그래밍 가능한 주파수 및 변조로 최대 10kW까지 분배되며, DC 전원은 펄스 타이밍 및 상승/낙하 시간을 조정하여 최대 3kW까지 공급할 수 있습니다. 플라즈마 활성화를 위해 추가 이온 소스를 통합 할 수 있습니다. 또한 8620 은 긴급 상황의 경우 자동 차단, 도어 연동 시스템, 타이머/스케줄에 따른 자동 시작, 장애 감지를 위한 RF 전원 모니터링 툴 등 다양한 안전 기능을 제공합니다. 또한, 이 장치에는 반응성 가스 및 증기를 효율적으로 처리하기위한 배기 자산이 포함되어 있습니다. MRC 8620 (MRC 8620) 은 고속 증착, 정밀한 필름 두께 및 구성 제어, 다양한 안전 기능 등 다양한 PVD 관련 프로세스 기능을 제공하는 고급 스퍼터링 모델입니다. 신뢰할 수 있는 구성, 직관적인 제어 인터페이스, 빠른 주기 시간 (fast cycle time) 을 갖춘 8620은 재료 연구, 표면 엔지니어링 및 기타 관련 기술 분야의 응용 분야에 이상적인 솔루션입니다.
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