판매용 중고 MRC 643 #9004057

제조사
MRC
모델
643
ID: 9004057
Sputtering system P/N: 82023-000C Target size: 5 x 15 80-100 psi Air 60-90 psi Water (4) GPM 3 kW RF, 10 kW DC Power supply: 208 V, 100 A, 60 Hz, 3-Phase.
MRC 643은 고성능 PVD (Physical Vapor Deposition) 스퍼터링 장비로, 다양한 기판에서 매우 정확한 박막을 배치 할 수 있습니다. 643 은 고진공시스템 (high-vacuum system) 을 활용하고 최대 10 나노미터/초의 생산 비율로 기판의 표적 물질을 스퍼터링하여 생산성과 효율성을 높이고, 재료 비용을 절감할 수 있습니다. 독특한 디자인은 6 개의 독립적 인 틸팅 스퍼터링 건 (sputtering gun unit) 을 특징으로하며, 이를 통해 증착 공정의 유연성과 사용자 정의가 향상되고 우수한 균일성으로 다른 재료를 동시에 퇴적시킬 수 있습니다. MRC 643에는 통합 로드록 챔버, 챔버 재순환, 자동 기판 청소 프로세스, 온도 조절 환경 및 완전히 CAD/CAM 호환 작동 장치 등 다양한 기능이 포함됩니다. 이 기계는 산업용 (industrial use) 으로 설계되었으며, 정확성과 신뢰성을 극대화하기 위한 다양한 통합 기능이 포함되어 있습니다. 독보적인 냉각 툴을 통해 대상 재료의 수명을 연장하고, 유지 관리 비용을 절감할 수 있습니다. 이 자산은 고객의 요구 사항에 맞게 맞춤형으로 조정할 수 있으며, 각종 증착률 (Deposition Rate), 목표 크기, 기판 간 거리 (Target-to-Substrate Distance), 각기 다른 대상 자료 등을 활용할 수 있습니다. 이 모델은 또한 웨이퍼, 태양전지, 플래시 메모리, 기판 (기판) 과 같은 다양한 기판과 복잡한 모양으로 호환되도록 설계되어 R&D 및 프로덕션 어플리케이션에 이상적인 선택입니다. 643의 제어 장비 인 EZ-Dep 2 (EZ-Dep 2) 는 사용자에게 친숙한 그래픽 인터페이스를 통해 증착 프로세스를 최적화하도록 설계되었습니다. 이를 통해 사용자는 프로세스 매개변수 (process parameters) 를 설정하고, 배치 매개변수를 모니터링하고, 스퍼터링 매개변수를 실시간으로 조정하여 더 큰 정확도와 제어를 얻을 수 있습니다. MRC 643 (MRC 643) 은 다양한 기판에 박막 (Thin Film) 을 배치하고 생산성과 비용 효율성을 극대화하는 안정적이고 반복 가능한 프로세스를 제공합니다. 독보적인 디자인, 고급 기능, 사용자 친화적 제어 시스템 등을 통해 업계 최고의 스퍼터링 (sputtering) 애플리케이션을 선택할 수 있습니다.
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