판매용 중고 MRC 603 #9008357

MRC 603 (MRC 603) 은 박막 증착을 위해 설계된 스퍼터링 장비로, 고품질 재료의 자기 및 직류 스퍼터링이 모두 가능합니다. 이 시스템에는 200mm 마그네트론 음극이 장착되어 있으므로 양방향으로 정확하고 반복 가능한 스퍼터링이 가능합니다. 이 장치는 최대 6 인치 직경과 최대 1 인치 두께의 기질을 수용 할 수있는 진공 챔버를 특징으로하며, 기본 압력은 5 × 10-6 Torr 미만입니다. 작동은 소프트웨어 내장 터치 패널 PC (touch panel PC) 에 의해 제어되며, 이를 통해 스퍼터링 프로세스의 정확한 제어를 위해 전원 공급 전압, 가스 흐름 제어, 플라즈마 매개변수 및 기타 관련 매개변수와 같은 매개변수를 단순화하고 설정할 수 있습니다. 기계의 주요 구성 요소는 전원 공급 장치, 진공 챔버, 양극이있는 음극, 대상, 백킹 플레이트 및 쉴드입니다. 603은 플랫폼 (platform) 을 사용하여 다양한 재료에 고품질 필름을 배치할 수 있습니다. 양수 (positive) 와 음수 (negative) 이온 모두를 단일 (single) 각도와 이중 (dual) 각도에서 스퍼터링하여 보다 정확하고 방향성 있는 스퍼터링을 가능하게 합니다. 이 도구에는 또한 이온 빔 (ion beam) 의 증착 각도를 제어하는 독립적 인 2 차 전자 총 (independent secondary electron gun) 이 포함되어 있으며, 다양한 물질에 대해 더 두껍고 부드러운 필름 침전물을 만들 수 있습니다. 에셋은 목표 거리, 스퍼터 압력, 전력, 전압 및 기타 관련 매개변수를 포함한 모든 매개변수에 대한 정확한 디지털 제어를 제공합니다. 이 챔버 (Chamber) 에는 증착 시간을 줄이고 더 높은 필름 품질을 달성하기 위해 사용할 수있는 고성능 터보 분자 펌프 (turbomolecular pump) 가 장착되어 있습니다. 스퍼터링 모델에는 증착률 (deposition rate) 및 필름 품질 (film quality) 을 제어하는 현장 청소 프로세스도 있습니다. 이 장비에는 자동 기판 중심 및 펌핑 스테이션 (pumping station) 이 장착되어 있으며, 정확하고 반복 가능한 스퍼터링을 위해 매우 낮은 수준의 대상-기판 거리가 가능합니다. MRC 603 (MRC 603) 은 연구와 산업을 위해 광범위한 재료를 안정적으로 스퍼터링하도록 설계되었습니다. 그 고도 의 정확성, 반복성, 유연성 때문 에, 박막 코팅, 광학· 생의학 장치, 초전도체, 광학 재료 등 여러 가지 응용 분야 에 사용 하는 데 적합 하다.