판매용 중고 MRC 603 #293774499

MRC 603 스퍼터링 (Sputtering) 장비는 반도체 업계에서 필름 두께, 구성 및 균일성을 정확하게 제어하는 고품질의 박막 (Thin Film) 을 만드는 데 일반적으로 사용되는 정교하고 다용도 박막 증착 도구입니다. 이 시스템은 마그네트론 스퍼터링 기술 (magnetron sputtering technology), 표적에서 기판 표면에 물질을 스퍼터링하여 기판에 박막 (thin film) 을 증착시키는 널리 채택 된 PVD (physical vapor deposition) 기술을 사용합니다. 603 스퍼터링 장치의 주요 구성 요소에는 진공실, 마그네트론 스퍼터링 소스, 전원 공급 장치, 가스 배달기, 기판 홀더 및 제어 도구가 포함됩니다. 진공실은 오염을 예방하고 효율적인 스퍼터링 (sputtering) 과정을 가능하게 하는 저압 환경을 제공합니다. 일반적 으로 금속 이나 산화물 과 같은 표적 물질 로 만들어진 "마그네트론 스퍼터링 '원 은" 플라즈마' 를 생성 시키고 물질 원자 를 기판 에 분출 하는 역할 을 한다. 전원 공급 장치 는 "플라즈마 '생성 및" 가스' 의 이온화 를 위하여 "스퍼터링 '원 에 필요 한 전력 을 공급 한다. MRC 603 (MRC 603) 의 가스 전달 자산 (gas delivery asset) 은 진공 챔버 내에서 가스 조성 및 압력의 정확한 제어를 가능하게하며, 반응성 가스가 도입 된 복합 박막을 생성 할 수있는 반응성 스퍼터링 프로세스를 가능하게한다. 기판 홀더는 스퍼터링 프로세스 (sputtering process) 동안 기판을 안전하게 고정하고 배치하여 기판 표면을 가로 질러 균일 한 증착을 보장하는 데 사용됩니다. 603 스퍼터링 장비의 제어 모델은 증착률, 목표 전력, 가스 유량, 기판 온도 등 다양한 프로세스 매개변수를 조절하고 모니터링하여 원하는 필름 특성을 달성합니다. MRC 603 스퍼터링 시스템의 주요 특징 중 하나는 정밀도 및 반복성이 높은 금속, 합금, 산화물, 질화물 등 다양한 재료를 증착 할 수있는 기능입니다. 이 장치는 다른 대상 재료 (Target Material) 와 스퍼터링 (Sputtering) 조건을 사용하여 필름 구성과 두께의 유연성을 제공합니다. 또한, 603은 우수한 필름 균일성과 기판에 대한 접착력을 제공하여 반도체, 광전자 (optoelectronics) 및 자기 저장 산업의 다양한 응용 분야에 적합합니다. MRC 603 스퍼터링 머신에는 안정적이고 안전한 작동을 보장하기 위해 고급 안전 기능이 장착되어 있습니다. 이러한 기능에는 인터 록 (interlock), 진공 모니터링 시스템, 과압 보호, 사고 방지 및 사용자 및 장비 보호를 위한 긴급 차단 메커니즘이 포함됩니다. 이 툴의 유지 보수 및 보정은 '성능 유지' 와 '운영 수명 연장' 에 필수적입니다. 결론적으로, 603 스퍼터링 자산은 박막 증착을위한 강력한 도구이며, 반도체 산업의 광범위한 응용 분야에 대한 정밀, 다용도, 신뢰성을 제공합니다. 고급 기능과 사용자 친화적 인터페이스 (user-friendly interface) 를 갖춘 이 모델은 박막 재료의 연구 개발, 생산, 품질 관리를위한 귀중한 자산입니다.