판매용 중고 MRC 603 #293761946
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MRC 603은 박막 증착에 사용되는 스퍼터링 장비입니다. 영구 자석을 사용하여 방향 플라즈마 스트림을 생성하는 직류, 평면 마그네트론 소스를 사용합니다. 스퍼터링 시스템에는 가변 전력 rf 소스가 장착되어 추가 이온 에너지 제어를 제공합니다. 603은 소형 단위로 직경이 최대 8 인치 (203mm) 인 기질에서 최대 1000 nm/min의 필름 증착율을 생성 할 수 있습니다. 이 기계에는 가열 음극, 프라임 진공 챔버, 4 사분면 질량 흐름 컨트롤러, 연동 도구, 셔터 및 클램프가 장착되어 있습니다. 가열 음극은 MRC 603의 주요 요소로, 결과 박막 증착의 품질을 결정합니다. 온도가 제어 된 히터 (heater) 와 컴퓨터 제어 온도 센서를 사용하여 적절한 온도를 유지하고 균일하고 일관된 강착 결과를 확인합니다. 원시 진공 챔버 (prime vacuum chamber) 는 스퍼터 목표를 향한 측면에 슬릿이있는 원통형 챔버입니다. 이 방은 증착 과정에 대한 까다로운 깨끗한 환경을 유지하도록 설계되었습니다. 균일 한 "펌프 '를 향상 시키기 위해 바닥 이 당황 하고, 전체적 인 압력 을 감소 시키고, 오염 으로부터 기질 을 보호 하기 위한 낮은 진공 배기" 링' 이 있다. 4 사분면 질량 흐름 컨트롤러 (4-quadrant mass flow controller) 는 활성 스퍼터링 가스 혼합물의 개별 성분을 조절하고 증착 과정에 대한 최적의 조건을 유지하기 위해 사용됩니다. 연동 자산은 대기 압력, 기판 온도, 스퍼터링 파워 및 가스를 모니터링합니다. 셔터 (shutter) 와 클램프 (clamp) 모델을 사용하면 스퍼터링 영역에 액세스하여 기판을 준비 및 제거할 수 있습니다. 전원을 끄면 rf 생성기가 켜져 있고 닫히면 셔터가 자동으로 열립니다. 클램프 (Clamp) 는 기판을 제자리에 두고 기판 교환을 용이하게 하는 데 사용되며, 최소 가동 중지 시간 (downtime) 을 갖습니다. 603은 매우 신뢰할 수 있고, 강력하며, 효율적인 스퍼터링 장비로, 다양한 박막 증착 응용 프로그램에 사용됩니다. 쉽게 설정할 수 있으며, 균일하고 재현 가능한 박막 증착 결과를 얻기 위해 필요한 기하학적 매개변수를 정확하게 제어할 수 있습니다.
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