판매용 중고 MRC 603 #166780

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제조사
MRC
모델
603
ID: 166780
In-line sputter system Features 3 Planar magnetron targets RF & DC sputter capability Cryo pumped.
MRC 603은 Advanced Energy Industries, Inc.에서 박막 증착에 사용하기 위해 개발 한 마그네트론 스퍼터링 장비입니다. 이 시스템에는 Langmuir-Child 법을 사용하여 역동적 인 크로스 필드 마그네트론 스퍼터링을 생성하는 2 개의 DC 마그네트론 소스가 장착되어 있습니다. 이 과정 을 통하여, 표적 물질 의 입자 들 이 "스퍼터 '를 하고 기질 과 충돌 하여, 기질 에 얇은" 필름' 이 형성 된다. 603 장치는 금속 및 반 절연 물질을 포함한 다양한 기판을 처리하도록 설계되었습니다. 저전력 소비, 기계 비용 절감, 스퍼터 증착률 증가의 이점을 제공합니다. 이 툴에는 자동화된 엔드 포인트 감지 및 제어 에셋이 내장되어 있어 스퍼터링 (sputtering) 프로세스를 수동으로 모니터링할 필요가 없습니다. MRC 603은 안정적이고 고강도 광출력을 제공하는 2 개의 자외선 (UV) 광원으로 구성 할 수 있습니다. 이 빛은 투영 렌즈에 의해 증착 대상에 중점을 둡니다. 이 과정을 통해, 대상 물질은 자외선 (UV light) 에 노출 된 후 증기 구름 (vapor cloud) 형태로 승화되어 기판에 침전된다. 603 모델은 증착 매개변수 (deposition parameters) 를 선택할 수 있는 유연성을 제공하며, 필름 증착 중 프로세스 조건을 최적화할 수 있습니다. 더 빠른 증착 속도를 장려하기 위해 산소 유동 장비를 시스템에 추가 할 수도 있습니다. 또한이 단위는 morganite, titanium-platinum 및 CO2 (carbon-ioxide) 와 같은 다양한 이온 원을 포함 할 수 있습니다. MRC 603 머신의 이러한 기능과 기능은 박막 (thin film) 의 증착에 이상적인 선택입니다. 높은 수준의 제어, 정확성, 유연성, 비용 효율성이이 도구는 다양한 증착 응용 프로그램에 매력적입니다. 여러 기판 재료를 처리하고, 정확하고 재현 가능한 필름 증착 (film deposition) 을 수행하는 기능은 사용자가 박막 공정에서 향상된 성능을 제공합니다.
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