판매용 중고 MRC 603 II #9353542

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제조사
MRC
모델
603 II
ID: 9353542
Sputtering system Cryo-torr vacuum pump With air-cooled compressor unit Loadlock Pallets, 13"x13" Targets mounted plates: Ti, Al and SiCr Bonding plates Forepump damaged Manuel and spare parts included Power supply: 208 V, 3 Phase.
MRC 603 II는 스퍼터 증착에 의한 고성능 증착을 위해 설계된 스퍼터링 장비입니다. 이 최첨단 시스템은 다양한 응용프로그램에 대한 고층 접착력을 통해 탁월한 균일성과 안정성을 제공합니다. 다음과 같은 기능이 있습니다. 1. 저 진공 챔버 (Low Vacuum Chamber) - 진공 챔버는 최소 진공 수준이 10-7 torr인 스테인리스 스틸로 만들어집니다. 여기에는 스퍼터링 대상의 필요한 모양에 따라 기판을 쉽게 정렬 할 수있는 조정 가능한 모양 홀더 (shape holder) 가있는 6 개의 독립적으로 제어 된 대상 스테이션 (target station) 이 있습니다. 2. 기판 회전 (Substrate Rotation) - MRC 603-II 단위를 사용하면 기판을 임의의 방향 또는 회전 방향으로 스퍼터링할 수 있습니다. 기판은 브러시리스 (brushless) 모터에 의해 회전하여 안정적인 성능을 보장합니다. 3. 자동 대상 선택 (Automated Target Selection) - 자동화된 대상 선택 머신을 사용하여 펄스-드웰 (pulse-dwell) 및 너비 (width) 와 같은 정확한 스퍼터링 매개변수를 결정합니다. 또한 사용자는 각 레이어의 기판 크기, 대상 두께, 처리 시간 등을 선택할 수 있습니다. 4. 세타-2 모터 (Theta-2 Motor) - 이 장치를 사용하면 기판의 대상 영역을 스퍼터링 대상에 정렬하기 위해 기판이 호에서 위쪽 또는 아래로 이동할 수 있습니다. 5. 고출력 양극성 소스 (High-Power Bipolar Source) - 이 소스는 균일한 고밀도 플라즈마 필드를 제공하여 효율적인 대상 대 기판 접착을 허용하도록 설계되었습니다. 이 소스는 더 긴 이온화 경로 길이 (ionization path length) 와 더 높은 이온 전류 밀도를 생성하여 대상과 기판 사이의 접착력을 증가시킵니다. 6. 자동 압력 제어 (Automatic Pressure Control) - 이 피쳐는 마이크로프로세서를 사용하여 공구 압력을 자동으로 제어합니다. 진공 압력은 컨트롤 노브 (control knob) 의 설정을 변경하여 쉽게 변경할 수 있습니다. 7. 진공 및 자산 장애 보호 (Vacuum and Asset Failure Protection) - 603 II 시리즈에는 진공 펌프 컨트롤러와 함께 제공되며 스퍼터링 프로세스 동안 모든 잠재적 인 위험으로부터 사용자를 보호하기 위해 비상 정지합니다. 결론적으로, 603-II는 정확하고 반복 가능한 결과를 달성 할 수있는 강력한 스퍼터링 모델입니다. 산업용 (industrial use) 용으로 설계되었으며, 사용자 및 장비 보호를 위해 다양한 안전 기능이 제공됩니다. 다양한 증착 및 스퍼터링 애플리케이션에 이상적인 선택입니다.
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