판매용 중고 MRC 603 II #293647878
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ID: 293647878
Sputtering system
(3) Cathodes
Cryo pump
Gasses: Argon, Oxygen
Wafer configuration:
16 x 3 inches
9 x 4 inches
5 x 5 inches
4 x 4 inches.
MRC 603 II는 제조 회사 Oerlikon Leybold Vacuum이 개발 한 스퍼터링 장비입니다. 한 번에 최대 4 개의 다른 재료를 반복하는 산업 가공 및 스퍼터링 (sputtering) 을 위해 설계된 강력한 도구입니다. 따라서 박막, 코팅, 보호 코팅 등 다양한 응용 분야에 적합합니다. MRC 603-II에는 음극 소스 (cathode source) 와 대상 챔버 (target chamber) 의 두 가지 모듈이 있으며 둘 다 단일 전원 공급 장치에 연결되어 있습니다. 이렇게 하면 시스템을 펄스 (pulsed) 및 상수 전류 (constant current) 로 작동시킬 수 있습니다. 음극 소스 모듈은 2 개의 챔버로 구성됩니다. 하나는 스퍼터링 음극 (sputtering cathode) 이고 다른 하나는 가열 기판 (heated 기판) 입니다. 표적 챔버 (Target Chamber) 는 최대 4 개의 서로 다른 재료를 동시에 분사하도록 설계되었으며 처리 시간을 단축하기 위해 통합 터보 펌프를 갖습니다. 603 II는 매우 효율적인 장치로, 고품질, 균일성 제품을 생산할 수 있습니다. 진공 조절 장치 (vacuum control machine) 는 또한 깨끗한 작업 환경을 보장하는 데 도움이되며, 사용자는 자신의 제품이 잔류 입자의 존재에 의해 악영향을 받지 않을 것이라는 안심할 수 있습니다. 603-II는 효율성 외에도 사용자 친화적입니다. 사용자 인터페이스 (User Interface) 는 작동하기 쉽도록 설계되었으며, 다양한 설정 (Setting) 을 통해 사용자는 개별 요구에 따라 공구를 조정할 수 있습니다. 응용 프로그램 범위를 확장하기 위해 추가 할 수있는 다양한 옵션 엑스트라 (예: 금속, 세라믹 대상) 도 있습니다. 전반적으로, MRC 603 II는 신뢰할 수 있고 효과적인 스퍼터링 자산으로, 다양한 용도에 적합합니다. 사용 편의성, 효율성, 유연성 등으로 말미암아 다양한 기능을 활용하고자 하는 사람들 사이에서 "인기 있는 선택 '이 될 수 있습니다.
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