판매용 중고 MEIVAC / ALCATEL / COMPTECH 98747ASSY9451503-10 #293663534

MEIVAC/ALCATEL/COMPTECH 98747ASSY9451503-10 Sputtering Equipment는 다양한 산업 부문에서 사용되는 안정적이고 효율적인 박막 증착 도구입니다. 이 시스템은 대상 챔버, 난방 소스, 진공 펌프, 양극, 증착실, 기판 홀더 및 스퍼터링 재료로 구성됩니다. 표적 챔버 (target chamber) 는 스퍼터링 프로세스가 발생할 수있는 환경을 제공하는 단단한 벽 챔버입니다. 그것 은 진공 "펌프 '와 열원 으로 구성 되어 있으며, 증착실 은 필요 한 온도 와 압력 에 도달 할 수 있다. 양극은 스퍼터링 (sputtering) 과정을 시작할 충분한 전원을 공급하는 전기 장치입니다. 증착실 내부 에서, "기판 홀더 '는 금속 이나 다른 물질 을 증착 시킬 원하는 기판 을 보유 하는 데 사용 된다. 일단 기판 을 놓으면, "스퍼터링 '물질 을 도입 하고 원하는 온도 에 도달 할 때 까지" 챔버' 내부 의 온도 를 가열 시킨다. 일단 기질 이 가열 되면, 금, 텅스텐, 티타늄, "알루미늄 '또는 산화물" 필름' 과 같은 원하는 물질 이 기질 에 스퍼터링 된다. 스퍼터링 물질은 표적 물질에서 증발되거나, 가스로 원자 화된다. 표적 재료 는 "챔버 '에 놓인 다음 양전하 원자 의 광선 으로 폭격 당한다. "봄바아드 '원자 의 영향 은 원자" 캐스케이드' 를 만들어 표적 물질 을 기판 에 뿌린다. 약실 내 의 온도 를 조절 하여 금속 이나 산화물 층 의 균일 한 증착 을 이룰 수 있게 한다. "깨어라!" MEIVAC 98747ASSY9451503-10 스퍼터링 장치는 정밀 박막 침착물을 빠르고 안정적이며 정확하게 생성 할 수 있습니다. 이 기계 는 고도 의 품질 조절 장치 (Quality Control) 를 사용 하여, 원하는 "필름 '을 정확 하게 배치 하였다. 이 도구는 또한 증착률 (deposition rate) 을 효율적으로 수정할 수있는 기능을 제공하여 박막 증착이 적용되는 비율을 미세하게 튜닝 할 수 있습니다. 전반적으로 ALCATEL 98747ASSY9451503-10 스퍼터링 에셋은 많은 박막 증착 어플리케이션에 이상적인 선택으로, 합리적인 비용으로 뛰어난 성능과 신뢰성을 제공합니다. 이 모델은 고품질의 박막 증착을 빠르고, 정확하고, 일관되게 달성합니다. 결과적으로, 광학 코팅, 마이크로 일렉트로닉 장치, 마이크로 일렉트로닉스 포장과 같은 정밀 박막 응용 프로그램을 찾는 사람들에게 적합한 선택입니다.