판매용 중고 MEIVAC / ALCATEL / COMPTECH 602B #9203526

MEIVAC / ALCATEL / COMPTECH 602B
ID: 9203526
PVD Thin film sputtering system (2) Chambers Loadlocked Turn-key.
MEIVAC/ALCATEL/COMPTECH 602B는 금속, 유전체 및 산화물을 포함한 박막 재료의 증착에 사용하도록 설계된 고정밀도, 고효율 스퍼터링 장비입니다. 이 시스템은 다양한 두께 변화 (thickness variations) 와 뛰어난 표면 특성 (surface characteric) 제어 기능을 갖춘 균일하고 고품질의 필름을 생산할 수 있습니다. MEIVAC 602B는 마그네트론 스퍼터링 (magnetron sputtering) 기술을 사용하는데, 여기에는 챔버 내에서 생성 된 가속 이온이 포함 된 후 증착 대상 물질과 충돌합니다. 이 장치에는 표준화 (standardization) 뿐 아니라 커스터마이징 (customization) 을 위한 다양한 기능이 제공되므로 박막 증착을 위한 안정적인 선택이 가능합니다. ALCATEL 602B에는 200mm 직경의 챔버와 2 개의 목표물이 독립적으로 또는 동시에 사용할 수 있습니다. 진공 펌프는 뿌리와 터보 펌프로 구성되어 최대 8x10-7 토르 (Torr) 에 도달하여 광범위한 재료를 사용할 수 있습니다. 또한 열 교환기 (heat exchanger) 로 온도를 조절하여 기판 및 증착 온도를 정확하게 제어 할 수 있습니다. DC, dB, 펄스 (pulsed) 전원 수준, 조절식 주파수, 기판 바이어스 기능 등 다양한 전원 공급 장치도 제공됩니다. 기계 전체는 일부 프로세스에 대해 초당 100 개 이상의 옹스트롬 속도로 작동 할 수 있습니다. 또한 602B에는 특수 밸브, 가스 믹싱 도구 (gas mixing tool) 및 필름을 정확도로 배치 할 수있는 고급 자동화 기능이 장착되어 있습니다. 또한 사용이 간편한 인터페이스를 통해 프로세스 매개변수 (process parameter) 를 원격으로 모니터링할 수 있으므로 다양한 배치 (deposition) 애플리케이션에 적합한 옵션을 제공합니다. 자산은 또한 더 큰 생산 라인에 통합 될 수 있으며, 추가 컨베이어, 웨이퍼 로더, 특수 노즐 (Nozzle) 모듈을 사용하여 최대 정밀도와 유연성을 제공 할 수 있습니다. 전체적으로 COMPTECH 602B (COMPTECH 602B) 는 매우 고급적인 모델로, 다양한 응용 프로그램에 대해 고품질의 고품질 및 일관성을 갖춘 균일 한 영화를 제작할 수 있습니다. 정밀 스퍼터링 (Sputtering) 기술을 활용하면 다양한 재료와 기판에 걸쳐 정확하고 안정적인 결과를 얻을 수 있습니다. 이 장비의 고급 기능 및 자동화 기능은 사용자에게 향상된 수준의 제어 (Control) 및 정확성을 제공합니다.
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