판매용 중고 MEIVAC / ALCATEL / COMPTECH 2460 #9174879

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ID: 9174879
웨이퍼 크기: 6"
빈티지: 2001
RF Sputtering system, 6" Process chamber ultimate vacuum: ≤2.0E^-6T Process gas pressure range: 0-50mt Process gas flow: 1-200sccm RF: Up: 0-2 kW Down: 0-5 kW Power: 208V, 60Hz, 3 Phase, 125A 2001 vintage.
MEIVAC/ALCATEL/COMPTECH 2460 Sputtering Equipment는 반도체, 의료 및 항공 우주와 같은 다양한 산업의 기판에 사용되는 고급 진공 처리 기술입니다. 이 "시스템 '은 진공실, 특수 장비, 여러 가지" 가스' 를 사용 하여 얇은 층 의 재료 를 입힌다. 스퍼터링 장치 (Sputtering Unit) 는 필요한 재료를 기판에 배치하는 방법으로 제어 환경과 특수 마스크 또는 패턴을 생성합니다. MEIVAC 2460 Sputtering Machine은 거의 원자층에 정확하게 레이어 또는 코팅을 만들 수 있습니다. 공구는 진공 챔버 (vacuum chamber) 로 시작하며, 펌프 사용을 통해 챔버 내부의 압력이 감소합니다. 빈 방 은 "아르곤 '과 같은 비활성" 가스' 로 가득 차서 물질 의 산화 와 발화 를 방지 한다. 스퍼터링 공정은 진공 챔버 (vacuum chamber) 에 배치 된 대상 재료 (target material) 로 시작되며, 저압 플라즈마 방전을 받으면 증발된다. 표적 물질 이 "플라즈마 '" 스트림' 에 부딪히면, 그 분자 들 이 기판 표면 으로 분출 되어 그 물질 의 얇은 "코우팅 '이 된다. ALCATEL 2460 스퍼터링 에셋 (sputtering asset) 은 생성 된 레이어의 균일성을 줄이기 위해 플라즈마의 미세 튜닝 (fine tuning) 을 포함하여 고급 제어 프로세스를 지원합니다. 이 모델은 기판 재료, 증착률, 접촉 각도, 절연 수준에 대해 최고의 튜닝 제어를 사용합니다. 이 장비는 또한 스퍼터 코팅 (Sputter Coating) 과 컨택트 전송 기술 (Contact Transfer Tech) 의 조합을 사용하여 고급 패턴을 만들 수 있습니다. 또한, 이 시스템은 특수 마스크를 사용하여 다양한 재료로 겹치는 패턴을 배치합니다. COMPTECH 2460 스퍼터링 장치 (Sputtering Unit) 는 안정성이 높고 성능이 효율적이며, 정밀 코팅 또는 레이어가 기존 방식보다 빠르고 경제적입니다. 이 기계는 고품질 레이어 (layer) 를 생성할 수 있으며 나노 전자 장비 (nano electronic equipment) 와 부품에 대한 매우 작은 구조를 달성하는 데 중요한 역할을합니다. 또한, 이 도구는 사용자 친화적인 설계 및 인터페이스 때문에 유지 보수가 용이합니다. 전체적으로 2460 개의 스퍼터링 자산은 박막 처리 요구 사항을 충족하는 일체형 솔루션입니다. 이 모델은 성능에 영향을 미치지 않으면서 다양한 기판 및 응용프로그램에 안정적이고 비용 효율적인 코팅을 제공합니다. 이 고급 장비 (Advanced Equipment) 를 사용하면 운영 주기 (Production Cycle Time) 를 단축하고 생산량을 향상시키고 다운타임을 줄일 수 있습니다.
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