판매용 중고 LEYBOLD HERAEUS Z550 #9213253
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ID: 9213253
Sputtering system
With 4-5 MAGNETRON Cathodes D, 6"
Sputter-down principle (Cathodes with D: 3" and D: 4" adapter flange)
(3) MAGNETRON Cathodes PK 200 / (2) Cathodes PK 150 and (2) cathodes PK 200 (Opposite 180°)
Etching plant
HF Etching
Rotary shutter
Microprocessor control
Coating program (120) parameter sets (Layers) and (40) recipes
Plant and process visualization: 9" Operating terminal.
LEYBOLD HERAEUS Z550은 과학자와 기술자가 고급 박막 연구 프로젝트를 수행 할 수 있도록 설계된 완전히 통합 된 스퍼터링 장비입니다. LEYBOLD HERAEUS Z 550은 챔버 크기가 71 x 74 x 31cm 인 내구성, 전형 차원 구조를 자랑합니다. 챔버 내부에서 10 위치 대상 피더는 최대 50x50cm의 다양한 기판 크기를 제공합니다. 4 단계 전자기 부양 스퍼터링 소스는 우수한 필름 증착과 비활성 대기 물질 증착을 만듭니다. 통합 LEYBOLD HERAEUS Vacuum System은 ZRFS 기술을 사용하여 스퍼터링 작업 중 낮고 안정적인 부분 압력을 유지합니다. 이것은 연구 프로젝트에 대한 지속적인 대기 압력을 유지합니다. LEYBOLD HERAEUS Z450에는 유용한 액세서리도 포함되어 있습니다. 여기에는 로봇 팔, 안전 미터, 턴테이블 및 방패가 포함됩니다. HERAEUS Z550 은 사용자가 매개 변수 설정과 관련하여 다양한 옵션을 제공합니다. 여기에는 챔버 압력, 전력, 대상 급지대 속도 및 기판 위치가 포함됩니다. 고정밀도, 펄스 주파수 (pulse-frequency) 조절 가능 전원 공급 장치를 활용하면 어플리케이션과 대상 재료에 관계없이 고품질의 박막 (Thin-Film) 결과를 얻을 수 있습니다. Z 550 에는 강력한 데이터 조작 기능도 포함되어 있습니다. 이러한 기능은 동일한 대상 재료 내에서 다른 위치의 필름 (film) 결과를 빠르게 분석하고 비교하는 데 도움이 될 수 있습니다. LEYBOLD HERAEUS HERAEUS Z550은 뚜렷하고 비용 효율적인 스퍼터링 유닛으로 모든 연구 프로젝트에 혜택을줍니다. 저전력 입력 (Low-Power Input) 과 빠른 자동 작업 실행 (Quick Automatic Job Execution) 을 통해 Z550은 안정적인 박막 증착 결과가 필요한 모든 프로젝트에 적합한 선택입니다. LEYBOLD HERAEUS Z550은 신뢰할 수있는 재료 및 프로세스 선택과 함께, 훨씬 빠르고 효과적인 연구 프로세스를 보장합니다. 이 고급적이고 신뢰할 수있는 스퍼터링 머신 (sputtering machine) 은 많은 연구 프로젝트에서 성공과 실패의 차이를 의미 할 수 있습니다.
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