판매용 중고 LEYBOLD Helios 2100 #293601797
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판매
ID: 293601797
Sputtering system
Targets:
(4) Silicon
(2) NiCr
(2) NbTa
(2) TiTaAI
Turbo pumps:
TPH 1501 UP
TC100
8-Position for 4" deposition
3D Glass tube deposition.
LEYBOLD Helios 2100은 넓은 지역 기판을 코팅하도록 설계된 이중 마그네트론 스퍼터링 장비입니다. 이 시스템은 2 개의 독립적 인 마그네트론 소스를 갖추고 있으며, 단일 소스, 이중 타겟 시스템보다 더 큰 프로세스 유연성과 더 높은 처리량을 제공합니다. 또한 반도체, 광학, 디스플레이, 포장 등 다양한 재료와 응용 프로그램을 사용할 수 있습니다. Helios 2100은 정밀 필름 증착을 위해 0.5-4.0kW 전원 공급 장치가 장착 된 이중 마그네트론 소스를 사용합니다. 통합 DC 마그네트론 스퍼터 소스는 균일성 및 반복성을 위해 공정 제어를 내장하고 있으며, 이 장치에는 통합 웨이퍼 온도 모니터링 머신 (integrated wafer temperature monitoring machine) 이 포함되어 있습니다. 소스 (source) 를 위아래로 이동하여 최대 3 개의 기판 크기를 수용할 수 있으며 기판 사이의 수직 간격을 조정할 수 있습니다. 이 도구에는 온보드 프로세스 컨트롤러, 자동 작동, 10 포인트 웨이퍼 매핑 에셋, 레시피 및 매개변수 절약 기능도 있습니다. LEYBOLD Helios 2100에는 유지 관리 및 청소가 용이한 견고한 디자인이 있습니다. 인클로저는 오염 및 다운타임을 줄이기 위해 설계되었습니다. 이 모델은 또한 DC 플라즈마 소스, RF 파워, 반응성 스퍼터링, 멀티 레벨 스퍼터링 등 스퍼터 코팅 기능을 향상시키는 다양한 옵션을 제공합니다. 통합 펄스 DC, 중공 음극 및 '트윈 타겟' 스퍼터링 소스는 뛰어난 필름 균일성과 증착율 증가를 제공합니다. Helios 2100은 전원 제어, 냉각, DC 전원 조절 등 다양한 프로세스 제어 및 보호 기능을 제공합니다. 소프트 스타트 (Soft Start) 장비는 플랜트 자동화 시스템과의 원활한 통합이 가능하며, 종합적인 소프트웨어 패키지를 통해 PC에서 프로세스를 손쉽게 모니터링할 수 있습니다. 이 시스템에는 안전 기능 (예: 운영 조건이 사전 설정된 제한을 초과하는 경우 자동 종료) 도 포함되어 있습니다. 결론적으로 LEYBOLD Helios 2100은 넓은 지역 기판을위한 강력하고 신뢰할 수있는 스퍼터링 장치입니다. 탁월한 필름 균일성 (film unifority), 반복성 (repeatability), 안전하고 효율적인 운영을 위한 광범위한 프로세스 및 보호 기능을 제공합니다.
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