판매용 중고 KHF ATN 500B #9070912

KHF ATN 500B는 박막 재료의 증착을 위해 설계된 데스크탑 크기의 스퍼터링 장비입니다. 이 시스템은 코팅, 반도체 장치, 생의학 임플란트 등 다양한 응용 분야에 사용되는 금속, 세라믹, 반도체 박막 (thin film) 을 만드는 데 사용됩니다. 이 장치 는 이러 한 물질 을 "실리콘 ', 유리," 플라스틱' 과 같은 기판 에 증착 시키도록 최적화 된 컴팩트 한 모듈 식 설계 를 갖추고 있다. 수직, 직경 5 인치 스테인리스 스틸 증착실 및 공정 컨트롤러와 연결된 디지털, 다이렉트 드라이브 전원 공급 장치를 사용합니다. 기계는 금속, 산화물, 질화물 등 다양한 물질을 스퍼터링 할 수 있습니다. 재료는 세라믹 대상 홀더 (ceramic target holder) 에 적재되며 전원 공급 장치에 부착됩니다. "에너지 '공급 장치 는 표적 을 가열 하기 위한 제어 전류 를 공급 해 주며, 그 로 인해" 이온' 과 중성 입자 들 이 표적 을 폭격 하고 높은 속도 로 지표 를 벗어나게 한다. 그 다음 에 이들 "이온 '과 입자 들 은 증착실 을 통과 하여" 실내악' 의 반대편 에 놓인 기판 을 쳐낸다. 이것은 기판에 재료의 얇은 필름을 만듭니다. 이 도구에는 컴퓨터 제어 프로세스 컨트롤러도 있습니다. 이를 통해 사용자는 원하는 결과를 얻기 위해 챔버 압력 (chamber pressure), 전력 수준 (power level), 가스 유량 (gas flow rate) 및 재료 증착률 (material deposition rate) 과 같은 매개변수를 정확하게 조정할 수 있습니다. 사용자는 자동 배치 (automated depositing) 를위한 레시피를 프로그래밍할 수도 있으며, 이를 통해 일관된 반복 가능한 결과를 얻을 수 있습니다. 이 자산에는 산소, 질소와 같은 반응성 가스를 모델에 도입하기위한 질량 흐름 컨트롤러 (Mass Flow Controller) 가 제공됩니다. 스퍼터링 공정과 결합 될 때, 이러한 기체는 높은 부식 저항, 굴절률, 강자성 특성 등의 독특한 특성을 가진 물질을 만들 수 있습니다. 이 장비에는 냉각 (cooling) 및 열 관리 (thermal management) 옵션도 포함되어 있어 사용자가 발열률을 정확하고 정확하게 제어 할 수 있습니다. 이렇게 하면 과열 (overheating) 로 인해 박막 (thin film) 의 품질이 손상되지 않습니다. 시스템은 구성 능력이 뛰어나며, 사용자의 특정 요구 사항에 맞게 조정할 수 있습니다. 예를 들어, 도펀트 소스 (dopant source), 회전 가능한 기판 홀더 (rotatable substrate holder) 및 스테이지 히터 (stage heater) 와 같은 증착 과정을 더 다듬기 위해 다양한 추가 구성 요소가 장착 될 수 있습니다. 이 장치는 다양한 산업에서 박막 재료를 입금하기에 이상적인 솔루션입니다. 검증된 결과를 바탕으로 사용자 친화적이고 효율적이며 안정적입니다. 이 기계는 또한 비교적 컴팩트하여 실험실, 파일럿 및 생산 규모 응용 분야에 적합합니다.