판매용 중고 HITACHI E-1045 #293757544

HITACHI E-1045는 반도체 제조 및 기타 고급 산업에서 박막 증착을 위해 설계된 최첨단 스퍼터링 장비입니다. 최첨단 기술 및 엔지니어링을 활용하는 E-1045는 다양한 기판 재료에 대해 정확하고, 안정적이며, 고품질의 필름 코팅을 제공합니다. 주요 특징 및 구성 요소: HITACHI E-1045 스퍼터링 시스템은 기판에 다른 재료를 스퍼터링하기 위해 여러 대상 스테이션이있는 강력한 진공 챔버를 갖추고 있습니다. 마그네트론 스퍼터링 음극 (magnetron sputtering cathodes) 과 같은 고급 플라즈마 소스를 장착하여 증착 과정의 효율성과 균일성을 향상시킵니다. 이 장치에는 또한 스퍼터링 매개변수 (예: 전력, 압력, 가스 흐름 속도) 를 정확하게 제어 할 수있는 정교한 전원 공급 장치가 포함되어 있습니다. 이것은 제작 프로세스의 뛰어난 필름 품질과 재생성을 보장합니다. 또한, E-1045에는 다양한 크기와 유형의 기판을 수용 할 수있는 신뢰할 수있는 기판 홀더가 제공됩니다. 홀더를 사용하면 조정 가능한 기울기 각도, 회전 속도, 가열 기능을 통해 특정 응용 프로그램의 필름 증착 조건을 최적화할 수 있습니다. 프로세스 유연성 및 호환성: HITACHI E-1045 스퍼터링 머신은 DC, RF, 펄스 DC 모드 등 다양한 스퍼터링 기술을 제공하여 다양한 컴포지션과 특성을 가진 필름을 배치 할 수 있습니다. 금속, 산화물, 질화물 등 다양한 대상 재료와 호환되며, 복잡한 다층 구조와 기능성 코팅의 증착이 가능합니다. 또한이 도구는 반응성 스퍼터링 프로세스를 지원하며, 여기서 산소 또는 질소와 같은 반응성 가스 (reactive gas) 가 챔버에 도입되어 화합물 필름 또는 합금을 형성합니다. 이 기능은 다양한 응용을위한 특정 화학 조성 및 특성을 가진 박막 (thin film) 을 증착 할 수있게한다. 고급 제어 및 모니터링 (Advanced Control and Monitoring): E-1045는 프로세스 안정성과 반복 가능성을 보장하기 위해 실시간으로 주요 매개변수를 모니터링하고 조정하는 고급 제어 자산을 갖추고 있습니다. 이 모델에는 진공 수준, 가스 구성, 증착률 측정을위한 통합 센서가 포함되어 있으며, 운영자는 프로세스 조건을 최적화하고 잠재적 문제를 신속하게 해결할 수 있습니다. 또한 HITACHI E-1045 는 사용자 친화적 인터페이스를 통해 중앙 집중식 제어 장치 (Central Control Unit) 를 통해 모든 스퍼터링 매개변수를 정확하게 제어할 수 있습니다. 운영자는 배치 레시피를 프로그래밍하고, 프로세스 매개변수를 모니터링하고, 데이터를 분석하여 일관된 필름 품질과 성능을 얻을 수 있습니다. 응용 프로그램 및 성능: E-1045 스퍼터링 장비는 반도체 산업에서 박막 코팅이 필요한 집적 회로, 센서 및 기타 전자 장치를 제조하는 데 널리 사용됩니다. 광학 코팅 (optical coating), 자기 저장 매체 (magnetic storage media), 장식 필름 (discorative film) 의 생산에도 사용된다. HITACHI E-1045는 탁월한 필름 균일성, 접착 및 두께 제어로 유명하며, 높은 정확도와 신뢰성을 요구하는 어플리케이션에 적합합니다. 연구 개발 목적이든 대규모 생산이든, E-1045 스퍼터링 시스템은 박막 증착 공정에서 탁월한 성능과 효율성을 제공합니다. 전반적으로 HITACHI E-1045 스퍼터링 (Sputtering) 장치는 다양한 산업 및 연구 응용프로그램에서 정확하고 고품질의 박막 코팅을 달성하기 위한 기술적으로 첨단 솔루션입니다. 혁신적인 설계, 유연한 프로세스 기능, 고급 제어 (Advanced Control) 기능을 통해 안정적이고 효율적인 스퍼터링 솔루션을 원하는 기업을 위한 최고의 선택입니다.