판매용 중고 HITACHI E-1030 #9151980

HITACHI E-1030 스퍼터링 장비는 박막 증착을위한 고성능 다용도 시스템입니다. 최고의 스퍼터 증착 (sputter deposition) 기술을 활용하여 연구 및 생산에 비용 효율적인 증착 솔루션을 제공합니다. 이 장치는 높은 각도 증착성 (high angular deposition) 균일성, 뛰어난 제어 및 반복성, 낮은 운영 비용, 뛰어난 증착율 제어 기능을 제공하여 광범위한 증착에 적합합니다. E-1030은 2 개의 회전 표적과 전자 빔 건으로 구성된 3 요소 크로스 스타일 머신을 사용합니다. 이 도구는 850W DC 마그네트론 전원 공급 장치로 구동되며 75mm 엔드 홀 자석을 사용합니다. 자석 구조는 대상 서피스 (Target Surfaces) 와 가까운 고밀도 플라즈마 (Plasma) 를 유지하도록 설계되었으며, 넓은 공간 영역에 균일한 스퍼터링을 제공합니다. 제어 에셋은 프로세스 매개변수 (예: 압력, 가스 흐름, 플라즈마 전력) 를 정확하게 제어합니다. HITACHI E-1030의 진공실은 스테인리스 스틸 (stainless steel) 로 만들어졌으며 10-7 torr의 기본 압력을 유지하기 위해 고성능 이온 게이지가 있습니다. 이 모델은 또한 탑로드 비품과 샘플 마스크 (샘플 마스크) 를 갖추고 있어 증착 과정을 자동화하고 귀중한 시간을 절약합니다. 샘플 마스크 기능을 사용하면 증착 두께, 모양, 크기를 정확하게 제어할 수 있습니다. E-1030에는 또한 WIG 난방 소스와 하단 진입 칠러가 장착되어 있어 최대 500 ° C의 온도에서 재료를 증착 할 수 있습니다. 이것은 시스템이 부드러운 필름과 하드 필름의 증착에 적합하게 만듭니다. 이 장치는 또한 필름의 인식 가능한 분해없이 최대 50 미크론 (micron) 의 두께로 유전체와 금속 필름을 증착 할 수있다. HITACHI E-1030은 하나의 소형 패키지에서 정밀도, 안정성 및 유연성을 제공합니다. 반도체, 광학, 센서, MEMS, 에너지 관련 분야 등 다양한 응용 분야에 적합한 다목적 증착기입니다. 설치/운영이 간편한 '사용자 친화적인' 툴로, 리서치 환경과 프로덕션 환경 모두에 적합한 솔루션입니다.