판매용 중고 HITACHI 03E-0631 #293807346

HITACHI 03E-0631은 박막 증착 기술의 새로운 표준을 설정하는 최첨단 스퍼터링 장비입니다. HITACHI 하이테크 (HITACHI High-Tech) 는 첨단 재료 분석 및 나노기술 분야의 글로벌 선두 주자로 설계하고 제작했으며, 최첨단 기능 및 다양한 자료를 정확하고 효율적으로 스퍼터링할 수 있는 기능을 갖추고 있습니다 (영문). 이 고도로 다재다능한 단위는 박막 증착 (Thin film deposition) 이 다양한 응용 분야에 중요한 연구 개발 실험실, 학술 기관, 산업 환경에 이상적입니다. 03E-0631 스퍼터링 머신 (sputtering machine) 의 핵심에는 여러 개의 스퍼터 소스, 기판 홀더 및 공정 제어 인터페이스가 장착 된 정교한 진공 챔버가 있습니다. 진공실 (vacuum chamber) 은 매우 높은 진공 상태를 유지하여 박막 증착을위한 깨끗하고 통제 된 환경을 보장하도록 설계되었습니다. 이 공구는 금속, 산화물, 질화물 등 다양한 재료를 스퍼터팅 할 수 있으며, 정밀도, 균일성이 높은 복잡한 다층 구조를 증착 할 수 있습니다. HITACHI 03E-0631 (HITACHI 03E-0631) 의 주요 특징 중 하나는 고급 스퍼터링 소스로, 마그네트론 스퍼터링 기술을 사용하여 높은 증착률과 뛰어난 필름 품질을 제공합니다. 자산에는 DC, RF 또는 펄스 DC 스퍼터링 (pulsed DC sputtering) 용으로 구성 될 수있는 여러 마그네트론 소스가 장착되어 있어 증착 공정의 유연성을 제공하고 특성과 특성이 다른 광범위한 재료를 증착 할 수 있습니다. 고급 스퍼터링 소스 외에도, 03E-0631에는 정확한 기판 홀더가 장착되어 있어 증착 중 기판 온도, 회전, 위치 조정 등을 정확하게 제어 할 수 있습니다. 이렇게 하면 전체 기판 서피스, 즉 넓은 영역 기판 또는 복잡한 형상에 대해 균일한 필름 두께와 품질이 보장됩니다. 이 모델에는 실시간 필름 두께 측정 및 기판 표면 분석, 프로세스 최적화 및 품질 보증 (Quality Assurance) 등 현장 모니터링 및 제어 기능도 포함되어 있습니다. HITACHI 03E-0631 은 사용자 친화적인 인터페이스와 직관적인 소프트웨어 제어 기능을 통해 작동과 프로그래밍을 쉽고 효율적으로 수행할 수 있도록 설계되었습니다. 이 장비는 사용자의 요구 사항과 전문 지식 수준에 따라 수동 (manual), 반자동 (semi-automatic) 또는 완전 자동 (fully automatic) 모드로 작동할 수 있습니다. 고급 프로세스 레시피 (Advanced process recipe) 는 반복 가능하고 재현 가능한 박막 증착 프로세스를 위해 시스템 메모리에 개발 및 저장할 수 있습니다. 전반적으로, 03E-0631 스퍼터링 장치는 박막 증착 기술의 정점을 나타내며, 광범위한 어플리케이션에 탁월한 정밀도, 효율성, 다재다능성을 제공합니다. 새로운 소재의 특징, 고급 코팅 개발, 신형 소자의 프로토 타입 (prototyping) 에 관계없이, 이 최첨단 머신은 연구자와 엔지니어들에게 박막 기술과 혁신의 경계를 밀어내는 데 필요한 도구를 제공합니다. 고급 기능, 견고한 디자인, 안정적인 성능을 갖춘 HITACHI 03E-0631은 박막 증착 (Thin Film Deposition) 요구 사항을 충족하는 최첨단 스퍼터링 도구를 원하는 실험실과 시설을 위한 최고의 선택입니다.