판매용 중고 EMITECH / EDWARDS K575X #293608605

EMITECH/EDWARDS K575X는 다양한 연구 및 산업 응용을 위해 금속, 합금, 산화물 등의 얇은 재료 필름 증착에 사용되는 고급 스퍼터링 시스템입니다. 이 시스템은 RF 전원, 마그네트론 소스, 진공 챔버 및 공정 가스 조절기로 구성됩니다. RF 전원은 13.56 MHz 주파수와 최대 출력 35 kW의 솔리드 스테이트 (solid-state) 고전원입니다. 이를 통해 넓은 영역에 대한 두께 및 처방전 코팅 매개변수를 정확하게 제어 할 수 있습니다. 마그네트론 소스 (magnetron source) 는 영구 자석을 사용하여 플라즈마 모양을 제어하며, 플라즈마 매개변수를 제어하기 위한 조절 가능한 전원 공급 장치 및 튜닝 제어가 특징입니다. 이를 통해 넓은 지역에서 대상 재료의 균일 한 증착을 달성 할 수 있습니다. 진공실은 스테인리스 스틸 (stainless steel) 로 구성되며 기본 압력은 5x10-5mbar 미만인 2m3의 용량을 갖습니다. 플랫 (flat) 또는 원통형 (cylindrical) 기판을 포함한 여러 유형의 기판과 호환되며, 직경은 최대 200mm입니다. 또한 "가스 '입구 와 배기" 가스' 를 포함 하여 "스퍼터링 '과정 중 에 반응 이 있는" 가스' 를 첨가 하여 "필름 '의 특성 을 향상 시킨다. 공정 가스 조절기 (process gas regulator) 는 공정 가스 압력의 조정을 가능하게하며, 인라인 게이지를 사용하여 신속하게 모니터링 할 수 있습니다. 이렇게 하면 원하는 필름 특성을 얻는 데 필요한 프로세스 매개변수를 정확하게 제어할 수 있습니다. 또한, 이중 영역 함수 (dual zone function) 가 특징이며, 동일한 실행에서 다른 기판 영역에 다른 매개변수를 적용할 수 있습니다. EMITECH K575X 는 강력하고, 다용도가 높은 스퍼터링 시스템으로, 효율적이고 정확한 스퍼터링 프로세스를 지원하는 다양한 기능을 갖추고 있습니다. 반도체· 광전자기기용 박막 증착 등 연구용· 산업용 응용에 적합하다.