판매용 중고 CVC CVC 2 #9124375

CVC CVC 2는 재료의 박막을 기판에 증착시키는 데 사용되는 스퍼터링 장비입니다. 3 개의 소스 클러스터 유형의 스퍼터링 시스템입니다. 즉, 3 개의 독립적 인 증착원이 있습니다. 다양한 기능을 사용할 수 있어 다양한 응용 프로그램에 유용합니다 (영문). 이 장치는 본체와 최대 3 개의 추가 증착원으로 구성됩니다. 각 소스는 유연한 팔을 통해 본체에 연결됩니다. 이를 통해 물질을 기판에 배치 할 때 유연성이 있습니다. 본체에는 제어 장치 (controller unit) 가 있어 증착 매개변수를 정확하게 제어 할 수 있습니다. "컨트롤러 '는" 프로그램' 이 가능 하여 그 들 의 필요 에 맞추어 증착 을 조정 할 수 있다. 기판에 재료를 증착하기 전에, 적절한 증착을 위해 진공 챔버 (vacuum chamber) 를 순환시켜야합니다. 이 약실 은 "펌프 '와 난방 의 조합 으로, 사용자 의 진공 요건 에 따라 순환 할 수 있다. 3 개의 증착원은 마그네트론, 아크 및 전자 빔입니다. 마그네트론 소스는 솔레노이드 자석 (solenoid magnet) 과 스퍼터 대상 (sputter target) 을 사용하여 가스 분자를 이온화하고 물질의 얇은 필름을 기판에 침전시킵니다. 아크 소스는 유도 코일 (induction coil) 과 전자 방사선 촬영원 (electron radiography source) 을 사용하여 물질을 이온화하고 스퍼터링합니다. 전자 빔 소스 (e-beam source) 는 전자 총을 사용하여 물질을 분출하고 기판에 얇은 필름을 형성합니다. 소스 외에도, CVC 2 기계에는 다른 여러 구성 요소가 장착되어 있어 원활한 작동이 보장됩니다. 이러한 구성 요소에는 로드 록, 척 테이블, 샘플 홀더, 진공 밸브, 프로세스 모니터링을위한 시청 포트, 대피 펌프, 가스 인젝터 및 워터 칠러가 포함됩니다. CVC CVC 2 도구는 적응력이 높으며 다양한 진공 기반 응용 프로그램에 사용할 수 있습니다. 예를 들어, 박막 저항기와 같은 전기 접촉 응용 프로그램 (예: 박막 저항) 에 사용할 수 있습니다. 또한, 이 자산은 MEMS 및 IC 제작을 위해 실리콘 웨이퍼에 재료를 증착시키는 데 사용될 수 있으며, 광학을위한 황화 아연 및 질화 실리콘의 박막 스퍼터링에 사용될 수있다. 결론적으로, CVC 2는 견고한 3 가지 소스 클러스터 스퍼터링 모델이며, 기판에 다양한 재료를 증착 할 수있다. 적응력이 뛰어나며, 다양한 애플리케이션에 사용할 수 있습니다. 여러 증착원과 다른 여러 구성 요소로, 재료 스퍼터링 (sputtering) 에 가장 효율적이고 신뢰할 수있는 시스템 중 하나입니다.