판매용 중고 CPA V2000 #184850

CPA V2000은 PVD (Physical Vapor Deposition) 장비로, 박막 층으로 다양한 재료를 코팅하도록 설계되었습니다. 마이크로 일렉트로닉스, 항공 우주, 의료 및 자동차를 포함한 많은 산업에서 사용됩니다. 이 시스템은 캐소딕 아크 증발 (cathodic arc evaporation) 과 스퍼터 증착 공정 (sputter deposition process) 의 조합을 사용하여 정확한 온도에서 금속 코팅을 공작물에 증착시킵니다. 이 장치는 프로그램 가능한 제어하에 최대 8 개의 대상 재료의 시퀀스를 지연하도록 구성 할 수 있습니다. 증착율, 두께, 순도, 균일성 (unifority) 의 제어는 모두 이 기계로 쉽게 이루어지며, 광범위한 응용에 적합합니다. "캐소딕 아아크 '증발 과정 은 진공 환경 에서 증발 하는 물질 로부터" 플라즈마' 를 생성 하여 증기 를 만든다. 이어서, 이 기화 된 물질 을 코팅 되는 기질 의 표면 에 증착 시킨다. 반면에, 스퍼터 증착 (sputter deposition) 은 물질이 저에너지 이온으로 이온화 및 폭격되는 과정으로, 고체 또는 액체 형태로 물질의 빠른 확산을 기판으로 유발한다. 이 과정은 특히 균일 한 코팅을 제공하는 데 유용합니다. V2000 도구는 내구성과 긴 제품 수명을 보장하기 위해 마모제 방지 코팅 방법을 사용합니다. 저온에서 평균 2 ~ 3 나노 미터 범위의 박막 증착을 달성 할 수 있습니다. 이 자산은 170 ° C의 낮은 온도에서 재료를 코팅 할 수 있습니다. 이 모델은 또한 매우 낮은 입사 전력 수준을 특징으로하며, 가장 엄격한 환경 요구 사항과 규제를 충족하는 고품질 코팅 (coating) 을 생산할 수 있습니다. 또한 CPA V2000에는 유지 보수가 용이한 자동 챔버 대피 기능도 있습니다. 따라서 수리/유지 보수에 소요되는 빠르고 효율적인 시간이 소요됩니다. 즉, 장비의 다운타임이 최소화됩니다. 전반적으로, V2000 시스템은 뛰어난 코팅 제어 기능을 갖춘 신뢰할 수 있는 PVD 장치로서, 하이엔드 애플리케이션에 적합한 툴입니다. 음극 호 증발과 스퍼터링의 조합은 매우 정확하고 유연합니다. 이 기계는 손쉬운 유지 보수 (maintenance), 낮은 입사 전력 수준 (low incident power level) 및 온도 범위 (temperature range) 로 우주 산업의 선두 주자가 되었습니다.