판매용 중고 CANON / ANELVA SPC-530H #9111247

CANON/ANELVA SPC-530H는 산업용으로 설계된 고성능 스퍼터링 장비입니다. 플라즈마 기반 마그네트론 스퍼터 소스 (plasma-based magnetron sputter source) 와 진공 환경 생성을위한 챔버 (chamber) 라는 두 가지 구성 요소가 결합되어 있습니다. 플라즈마 기반 마그네트론 스퍼터 소스 (Plasma-based magnetron sputter source) 는 전자 샤워 (electron shower) 를 사용하여 플라즈마를 생성하는 아르곤과 산소의 가스 혼합물을 자극하여 기질 표면을 폭격하는 활기차고 균일 한 엔티티를 제공합니다. 그런 다음 표면의 결정 구조가 원자 종의 폭격을 통해 변경됩니다. CANON SPC-530H 용 챔버 (chamber for CANON SPC-530H) 는 진공 환경을 제공하도록 설계되어 기판의 재료를 공간 같은 조건에서 증착 할 수 있습니다. 최후의 1x10-6 Pa 압력으로, 챔버는 원하는 진공 환경을 유지하기 위해 외부 부스터 펌프 (pump) 로 설계되었습니다. 또한, 챔버에는 진공 회선, 배관 (piping) 및 밸브가 장착되어 챔버의 무결성을 보장하고 최적의 성능을 유지합니다. ANELVA SPC-530H (ANELVA SPC-530H) 에는 이온 소스 (ion source) 와 같은 여러 기능이 있는데, 이는 원자 및 소스 전원 검출기의 이온화를 제어하여 필름 증착을 제어할 수 있도록 도와줍니다. 이는 프로세스를 모니터링하고 피드백을 방출하여 원하는 필름 증착을 유지합니다. 또한, SPC-530H에는 플라즈마 모니터링 창 (plasma monitoring window) 이 포함되어 있는데, 이 창은 챔버에서 플라즈마를 관찰하고 공정의 추가 미세 튜닝을 허용합니다. 전반적으로 CANON/ANELVA SPC-530H는 산업용으로 설계된 고급 스퍼터링 시스템입니다. 플라즈마 기반 마그네트론 스퍼터 소스와 진공 환경을 제공하는 챔버를 결합합니다. 이 장치에는 이온 소스 (ion source), 소스 전원 탐지기 (source power detector) 및 플라즈마 모니터링 창 (plasma monitoring window) 과 같은 기능이 장착되어 있어 증착 과정을 정확하게 제어할 수 있습니다. 고급 기능으로, 이 기계는 반도체, 자동차 업계에서 널리 사용되며, 정밀도, 안정성, 비용 효율적인 결과를 사용자에게 제공합니다.