판매용 중고 CANON / ANELVA ILC 1051 #9111758

CANON/ANELVA ILC 1051은 고품질 박막 증착 기술을 제공하기 위해 개발 된 스퍼터링 시스템 유형입니다. 이것은 생산 된 필름 레이어 측면에서 뛰어난 성능, 정밀도, 정확도로 유명합니다. 스퍼터링 챔버, 베이스 챔버, 대상 챔버, 로터리 모터 및 유도 전원으로 구성됩니다. 스퍼터링 챔버 (Sputtering Chamber) 를 사용하면 프로세스의 원하는 압력과 온도를 설정할 수 있으며, 대상 챔버 (Target Chamber) 를 사용하면 기판과 관련하여 대상 재료의 위치를 제어할 수 있습니다. 회전 모터 (rotary motor) 를 사용하면 챔버의 대상 재료 (target material) 를 정확하게 배치하여 스퍼터링 프로세스에 대한 최적의 대상 구성을 달성할 수 있습니다. 베이스 챔버 (Base Chamber) 는 기판을 수용하고 공정의 온도와 압력을 제어합니다. 유도 전원은 스퍼터링 된 물질을 기판으로 전달하는 이온 전류 (ion current) 를 제어하는 데 사용된다. CANON ILC 1051은 magnetron sputtering, ionized metal sputtering 및 metal-ion plasma sputtering과 같은 다양한 스퍼터링 프로세스를 수행 할 수 있습니다. 또한 빠른 열 처리를 수행 할 수 있습니다. 또한, 산화물, 반응성 금속, 순수한 금속, 합금, 탄소 화합물 및 다양한 세라믹 재료를 포함하여 다양한 표적을 수용하도록 설계되었습니다. ANELVA ILC-1051은 반도체 제조, 박막 태양 전지 생산, 광학 코팅, 의료 기기 응용 프로그램 등 다양한 연구 응용 분야에 적합한 다목적 스퍼터링 시스템입니다. 또한, 다양한 제품에 대한 고품질 전도성, 접착성, 보호 필름을 입금하는 데 사용될 수 있습니다. 또한 다양한 화학, 전기 화학 및 기계 공정에 대한 재료를 증착하는 데 사용될 수 있습니다. ILC-1051 은 개방형 아키텍처를 갖추고 있어, 특정 요구 사항에 맞게 시스템을 맞춤형으로 구성할 수 있습니다. 정밀한 증착 제어 (deposition control) 와 고급 전원 (advanced power source) 은 레이어 균일성과 뛰어난 필름 특성에서 높은 정확성을 제공합니다. 이 시스템의 유연성 (Flexibility) 과 적응성 (Adaptability) 은 다양한 산업의 연구원들 사이에서 선호되는 선택입니다.