판매용 중고 CANON / ANELVA ILC 1051 #293643766

CANON/ANELVA ILC 1051 (CANON/ANELVA ILC 1051) 은 기판에 얇은 층의 물질을 침전시키는 기능을 통해 산업 수준의 사용을 위해 설계된 고도로 전문화 된 스퍼터링 장비입니다. 다양한 목적으로 사용됩니다. 특히 스마트폰 (Smart Phone) 및 기타 첨단 기술 제품 등 전자제품에 사용하기 위해 전자보드에서 디스플레이 패널 (Display Panel) 과 전자 부품 코팅 (Electronic Component Coating) 을 생산하는 데 가장 유용합니다. 이 계열은 저전압 DC 스퍼터링 (low voltage DC sputtering) 또는 무선 주파수 (RF) 스퍼터링 (sputtering) 방법을 사용하여 기판 표면에 얇은 층의 재료를 배치합니다. 세심한 전자 부품을 생산할 때 더욱 정밀하고 제어할 수 있습니다. DC 스퍼터링 (Sputtering) 방법을 사용하면 전체 낮은 전압이 경량 목표 (Light Weight Target) 로 달성되어 더 높은 생산률과 증착 물질의 균일 성을 향상시킬 수 있습니다. RF 스퍼터링 방법 (RF sputtering method) 은 단일 또는 다중 RF 생성기 (single or multiple RF generator) 를 사용하여 더 높은 전류 주파수를 생성하고, 전극에 적용되어 기판상의 레이어의 균일 한 증착을 초래한다. RF 스퍼터링 프로세스는 장치 면적당 더 많은 전력 소비가 필요합니다. 그러나, 그것은 기질에서 물질의 더 얇고 균일 한 증착을 효과적으로 초래한다. 또한 CANON ILC 1051 스퍼터링 시스템은 2 개 또는 3 개의 대상 음극으로 여러 개의 타겟 구성을 제공합니다. 프로세스 내에서 유연성이 향상됩니다. 여러 가지 전자 부품 코팅 (coating) 을 위해 금속 (metal) 과 세라믹 (ceramic) 대상의 조합을 기판에 뿌릴 수 있습니다. 또한, 다중 타겟 구성은 기판을 향한 대상의 균일성을 유지합니다. 이 기계의 기판 캐리어 (기판 캐리어) 는 부식 내성 금속으로 고도로 설계되고 제작되어, 반복 가능한 성능으로 안정적이고, 고품질의 결과를 보장합니다. 또한, ANELVA ILC-1051 시리즈에는 고급 제어 및 모니터링 도구 (예: 균일하고 안정적인 작동을 보장하는 자동 시퀀서, 실시간 프로세스 모니터링) 가 장착되어 있습니다. 이 단위는 또한 이온 전류 (ion current) 와 자기장 (magnetic field) 과 같은 증착과 관련된 많은 매개변수를 측정하므로 정확하고 신뢰할 수있는 결과를 보장 할 수 있습니다. 결론적으로, 캐논 ILC-1051 스퍼터링 머신 (CANON ILC-1051 sputtering machine) 은 다양한 기판에 얇은 층의 재료를 경제적이고 안정적으로 퇴적시키기 위해 설계된 혁신적이고 전문화 된 도구입니다. 이 도구는 DC 스퍼터링 (Sputtering) 또는 RF 스퍼터링 기술을 활용하여 뛰어난 정확도, 유연성, 반복성 및 신뢰성을 제공하며 효율성을 갖춘 뛰어난 품질의 결과를 제공합니다.