판매용 중고 CANON / ANELVA C-7100GT #9188155

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ID: 9188155
웨이퍼 크기: 12"
빈티지: 2007
PVD Gate metal deposition system, 12" CANON / ANELVA MDX400 Tandem core Software version: 100902 Upgraded on 2009 Hardware configuration (Fab): Main system: Equipment front end module (EFEM) Quadro load lock (2) Transfer chambers Pass chamber (with wafer aligner) FOUP System: (2) RORZE Load ports Handler system: Transfer robot double end-effector (EFEM) (2) Wafer handling units dual-arm (Transfer chamber) ATM Wafer aligner (EFEM) VAC Wafer aligner (Pass chamber) Process chamber: (3) PVD PCM-X Chambers (2) PVD 2PVD-EX Chambers PVD 4/5PVD-EX Chamber Gas heat chamber Hardware configuration (Subfab / Auxilliary units): (4) Power distribution racks Compressor rack with cryo compressor Control rack for core (2) Control racks for (2) PVD-EX Control rack for 4/5 PVD-EX (3) Control racks for PCM-X Control rack for gas heat EES Rack (3) Chillers 2007 vintage.
CANON/ANELVA C-7100GT는 다양한 박막 증착 응용 프로그램을 위해 설계된 소형 고성능 스퍼터링 장비입니다. 이 시스템에는 다양한 증착에 사용될 수있는 고속, 정밀 제어 DC 마그네트론 스퍼터링 증착기가 있습니다. 스퍼터링 장치 (Sputtering Unit) 는 고급 박막 처리를 위해 최적의 증착 속도와 우수한 기판 품질을 제공하도록 설계되었습니다. 필름 두께 (film thickness) 와 컴포지션 (composition) 을 정확하게 제어하여 대형 기판에 정밀하고 균질한 레이어를 생성할 수 있습니다. CANON C-7100GT의 주요 구성 요소는 소스, 기판 홀더, 로터리 스퍼터 챔버, 진공 기계, 전원 장치, 로드 록 챔버 및 컨트롤러입니다. 그 근원 은 "마그네트론 '하나 이상 으로 구성 되어 있으며, 그" 마그네트론' 은 얇은 재료 층 을 만드는 데 사용 된다. 기판 "홀더 '는 직경 이 300" 밀리미터' 에 이르는 거대 한 기판 을 처리 할 수 있으며, 표본 을 회전 하고 기울일 수 있다. 회전 스퍼터 챔버는 기판을 회전시켜 균일 한 필름 증착을 보장합니다. 진공 공구는 작업 환경을 유지하고 반응 산물을 제거합니다. 로드 록 챔버는 작업 챔버 압력 및 온도의 변동을 완화시킵니다. 마지막으로, 컨트롤러는 전원 공급 장치, 반응 매개변수, 스퍼터링 프로세스 모니터링 등을 담당합니다. ANELVA C-7100GT는 광학 코팅, 반사 코팅, 반동 코팅, 표면 보호 코팅, 나노 구조 코팅, 금속층 증착 및 캡슐화와 같은 광범위한 박막 증착 응용 분야에 적합합니다. 중합, 금속, 세라믹, 복합 소재 등 다양한 유형의 작업 조각 재료를 사용할 수 있습니다. 필름 두께가 0.2 nm만큼 작은 변형을 갖는 정확한 증착 제어를 제공합니다. 이 자산은 손쉬운 준비, 유연한 운영을 위해 높은 처리량을 제공하도록 설계되었습니다. C-7100GT 는 안정적이고 내구성이 뛰어난 모델로서, 서비스 수명과 유지 관리 요구 사항이 낮습니다. 운용 업체, 부품, 환경을 보호하는 통합 비상 정거장 (Emergency Stop) 과 안전 기능 (Safety Features) 이 포함된 안전 장비가 특징입니다. 이 시스템은 인정된 안전 표준 (Safety Standard) 및 규정을 충족하도록 설계되었으며, 다양한 원격 제어 및 모니터링 옵션을 제공합니다. 이 장치는 또한 정확하고 정확한 프로세스 최적화 및 데이터 수집 (data collection) 기능을 제공하여, 사용자가 박막 증착 프로세스의 결과를 모니터링하고 분석할 수 있습니다.
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