판매용 중고 BALZERS 450 #170848

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ID: 170848
웨이퍼 크기: 3"-4"
Sputtering system, 3"-4" Process: large targets (~9"x5") in a sideways-sputter configuration Targets sputter inward onto a rotating drum. Pallets: 3" and 4" wafers. Drum: Raises vertically out of the top of the chamber Hydraulic lift: Failure, but using an external hoist to open the chamber (3) Target slots: Aluminum, Tungsten, Silicon, Fourth slot is currently set up to perform an RF etch of the substrates and drum System has never seen any gold or photoresist inside the chamber Process gas: Argon Vent gas: Nitrogen Cryo pump: base pressure of ~5e-7 torr. (~8 hours to pump out) (2) Power supplies RGA: 1-100 AMU Software PC: Windows 98 Currently installed in a fab.
BALZERS 450은 세계 최고의 광학 부품 및 시스템 제조업체 인 Leybold Optics에서 제조 한 스퍼터링 장비입니다. 이 시스템은 부식, 마모 (marrasion) 및 기타 환경 요인에 따르는 표면에서 고도로 전도성 코팅의 생산을 포함하여 다양한 산업, 과학 및 연구 응용 분야에 사용되도록 설계되었습니다. 450은 스퍼터링 챔버 (sputtering chamber), 펌핑 스테이션 (pumping station) 및 증착 장치를 포함한 여러 구성 요소로 구성됩니다. 스퍼터링 챔버의 부피는 400 리터 (50 리터) 이며 몰리브덴 (molybdenum) 과 백금 코팅 표면 (platinum coated surfaces) 이있는 스테인리스 스틸 물질로 구성됩니다. 챔버의 벽에는 탈착식 반사경 (removable reflector) 과 진공 물개를위한 프레임 (frame) 이 늘어서 있습니다. 이를 통해 균일 한 스퍼터링 (sputtering) 과 높은 수준의 반복성을 제공하며 프로세스 최적화가 가능합니다. 챔버 (chamber) 에는 회전 대상 (rotating target) 과 조정 가능한 리프트 높이 (adjustable lift height) 가 포함되어 있습니다. 펌핑 스테이션에는 오일 밀봉 로터리 베인 펌프, 기계식 부스터 및 높은 진공 펌프가 포함됩니다. 이는 시간당 최대 96 입방 미터의 펌핑 용량과 최대 1 밀리 토르 (milliTorr) 의 정상 작동 압력으로 탁월한 성능을 보장합니다. 반면 에, 증착기 는 목표 물질 을 조절 속도 로 "기판 '에" 스퍼터' 시키도록 설계 되었다. 이것은 스퍼터링 이온 빔 (sputtering ion beam) 에 초점을 맞추기 위해 시공기 (Colimator) 와 목표 셔터 (Target Shutter) 를 사용하여 달성되며, 증착되는 물질의 완벽한 화학량 론을 보장하기위한 가스 흐름 도구. BALZERS 450 스퍼터링 에셋은 고밀도 광학 (optical) 에서 미세 (fine-grain) 질감 표면에 이르기까지 광범위한 증착 프로세스를 제공합니다. 또한 실시간 모니터링 (옵션) 을 통해 자동화된 프로세스 제어 모델을 제공합니다. 이를 통해 프로세스 비용을 절감하면서 제품 품질을 일관되게 유지할 수 있습니다. 또한, 설계된 구성 요소는 신뢰할 수 있는 성능을 제공하여 프로세스 반복성과 수익성이 향상됩니다. 450 (450) 은 까다로운 산업, 과학, 연구 응용의 요구 사항을 충족하도록 설계된 안전하고 안정적인 장비입니다.
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