판매용 중고 ANATECH / TECHNICS HUMMER V #5717
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ID: 5717
Manually controlled tabletop sputter system
Process: depositing a conductive coating for visualizing SEM samples
Sputter deposition process is more uniform and reproducible
Yields more adherent films with finer grains than in evaporation systems
A bell jar will be installed on the tool
Internal pump: Mitsubishi Elec. Super Line, single phase induction motor, type SP-NRF
No targets included.
ANATECH/TECHNICS HUMMER V는 평평한 기판에 유기 및 무기 물질의 균일 한 층을 제공하도록 설계된 스퍼터링 장비입니다. 진공 챔버와 2 개의 샘플 홀더, 최대 4 개의 소스, 여러 프로세스 가스 및 광범위한 스퍼터 및 증착 매개변수가 특징입니다. ANATECH HUMMER V는 반전 된 마그네트론 기술 (IMT) 을 사용하는데, 여기서 원통형 코일은 축대칭 자기장을 스퍼터 목표에, 스퍼터 된 물질은 마그네트론 중간에 수집됩니다. IMT 기술은 전통적인 DC 스퍼터링에 비해 플라즈마 균일 성을 향상시킵니다. 또한 TECHNICS HUMMER V는 저전류 (low current) 및 저전압 (low voltage) 작동을 특징으로하여 스퍼터 프로세스를 더욱 효과적으로 제어할 수 있습니다. DC 마그네트론 스퍼터링 시스템으로서 HUMMER V는 다른 스퍼터링 기술보다 많은 이점을 가지고 있습니다. 특히, 저전류 작동은 낮은 스트레스 임플란테이션을 허용하며, 이는 기질에 대한 재료 접착을 크게 향상시킬 수 있습니다. 또한, 다중 가스 전달 장치는 매번 일관된 결과를 제공하는 빠르고 반복 가능한 프로세스를 제공합니다. 여러 가스를 활용함으로써, 스퍼터 소스는 반응성 (reactive) 과 반응성 (non-reactive) 스퍼터링 (sputtering) 을 모두 제공 할 수 있으며, 서로 다른 특성을 가진 다양한 재료의 증착을 가능하게한다. ANATECH/TECHNICS HUMMER V (ANATECH/TECHNICS HUMMER V) 는 다양한 어플리케이션을 지원하는 다양한 운영 매개변수와 옵션을 제공하도록 설계되었습니다. ANATECH HUMMER V는 DC 스퍼터링 머신 외에도 여러 이온 소스를 특징으로하여 이식 된 재료의 트윈 피크 (twin-peak) 및 사용자 정의 프로파일을 생성 할 수 있습니다. 테크닉스 허머 V (TECHNICS HUMMER V) 는 여러 이온 소스를 활용하여 복잡한 다층 구조뿐만 아니라 고귀하고 고상하지 않은 레이어를 배치 할 수 있습니다. 이 도구는 실리콘, 금속, 기타 재료 시스템 등 다양한 기판을 지원하도록 설계되었습니다. 허머 V (HUMMER V) 는 다양한 기판에 유기 및 무기 물질 층을 증착해야합니다. 독특한 이온 소스와 저전류 작동 덕분에 ANATECH/TECHNICS HUMMER V는 접착 및 반복 가능한 프로세스가 개선 된 균일 한 레이어를 제공 할 수 있습니다. ANATECH HUMMER V (ANATECH HUMMER V) 는 다양한 운영 매개변수를 사용하여 다양한 재료를 일관성 있고 균일 한 층으로 입금 할 수있는 훌륭한 자산입니다.
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