판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS NAR 1800 Twin #9243193

ID: 9243193
Vertical inline sputtering system Substrate carrier: Substrate dimensions: 730 x 920 mm Carrier dimensions: Approximate 1840 mm length Approximate 2527 mm height Carrier loading capacity: (4) Substrates Carrier material: Ti / Al Glass breakage rate within vacuum area: Glass thickness: < 0.5 mm: 0.3% ≥ 0.5 mm: 0.1% Vacuum measuring equipment: Pirani vacuum meter: Range: 10³ hPa to 1x10^-3 hPa Ionization gauge: Range: 10^-2 hPa to 1x10^-9 hPa Capacitance vacuum meter sensor head: Range: 10^-2 hPa to 10^-4 hPa Pumps: SHIMADZU TPH1503 Turbo-molecular pump Rough vacuum pump SP630 plus WSU-2001 Sputter cathodes: Type: Rotary cathode & water cooled Material of backing tube: Stainless steel Magnetic field: Static magnet array Target: sprayed onto backing tube Target length: 2150 mm Planar cathode: Type: DC Magnetron Material of backing plate: Titanium with water cooling channels ITO / MO BP Al (2) BP Magnetic field: Move mag Target fixing: Bonding Target length: 2100 mm (2) 300 x 265 x 9 mm³ (Two end pcs) 1500 x 265 x 7 mm³ (Middle part segmented in pcs) Heater system: Heating chamber equipped with resistance heater which emits IR radiation Mode of operation: PID Regulation Heater set point capability: 650°C Shielding: Shielding material: Stainless steel High sticking coefficient to prevent particle generation Machine control system: Programmable logic controller with decentralized IO’s Digital & analog controls: Pumps Valves Power supplies Interlocks for water and compressed air Error messages Operating system: Windows Cooling water: Pressure: 5/7 Bar absolute Maximum back pressure: Open drain Water inlet temperature range: 18-25°C Temperature level within: ± 2°C (for TMP’s only) Hardness of water: 6-8°dH (Equivalent 107-143 ppm CaCO3) Electric conductivity: 100 - 200 μS/cm pH-Value: 8 - 10 Foreign particles size: Maximum 100 μm Foreign particles concentration: Maximum 10/cm³ Dissolved Cl: Maximum 20 mg/l Dissolved CO2: Maximum 15 mg/l Compressed air: Pressure: 6/8 Bar absolute Sputter gases: Argon Oxygen Nitrogen Argon / Oxygen Purity of sputter gas: 99.999 % Venting gas: Nitrogen or dry compressed air Dew point: ≤ -30°C Pressure maximum: 1.5 Bar absolute Ambient requirements: Temperature at machine & machine control room: 20-30°C Relative humidity: ≤ 60 % Machine SiO2 / ITO Track consumption values: Power: 760 kVA / 1000 A Machine metal track consumption values: Power: 1000 kVA / 1500 A Electric power: 400 V ±10 %, 50/60 Hz, 3 Phase, 5 wires (3 AC, N, PE).
AMAT/APPLIED MATERIALS NAR 1800 Twin은 재료의 얇은 필름을 기판에 코팅하거나 입히도록 설계된 스퍼터링 장비입니다. 2 챔버 시스템입니다. 즉, 2 개의 독립적 인 진공 챔버 (vacuum chamber) 가 있으며, 이는 단일 운영주기에서 다른 재료를 스퍼터팅 할 수 있습니다. 이 장치는 무인 작업 (unattended operation) 을 위해 설정되며, 사용자는 필요한 필름이 배치될 때까지 매개변수를 설정하고 머신을 무인 상태로 둡니다. 고진공, 직류, 평면 마그네트론 스퍼터링 기술을 기반으로하며 트윈 음극으로 작동 할 수 있습니다. 이를 통해 전체 기판에서 높은 증착률과 우수한 균일성이 가능합니다. 기판 처리를 자동화하기 위해 load-lock으로 도킹할 수도 있습니다. 이 자산은 알루미늄, 스테인리스 스틸, 티타늄, 구리, 텅스텐 및 크롬과 같은 재료를 증착 할 수 있습니다. 또한 한 번의 작업주기 (operating cycle) 에 여러 개의 레이어를 배치하여 다중 레이어 박막 (thin film) 을 생성할 수 있으며 곡면에 오목하고 볼록한 구조를 생성 할 수도 있습니다. 작동 사양으로 볼 때, 모델은 진공 챔버 부피 4 리터, 기본 압력 2x10-7 토르, 2 개의 단면 평면 마그네트론의 음극 구성, 마그네트론 당 최대 2000 와트의 전력을 갖습니다. 이 장비는 직경 200mm까지의 기판을 수용 할 수 있으며, 실온에서 최대 600C까지의 기판 난방 범위를 갖습니다. AMAT NAR 1800 Twin은 안전하고 안정적인 스퍼터링 시스템으로 뛰어난 성능과 균일성을 제공합니다.
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