판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS NAR 1800 Twin #9243193
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ID: 9243193
Vertical inline sputtering system
Substrate carrier:
Substrate dimensions: 730 x 920 mm
Carrier dimensions:
Approximate 1840 mm length
Approximate 2527 mm height
Carrier loading capacity: (4) Substrates
Carrier material: Ti / Al
Glass breakage rate within vacuum area:
Glass thickness:
< 0.5 mm: 0.3%
≥ 0.5 mm: 0.1%
Vacuum measuring equipment:
Pirani vacuum meter:
Range: 10³ hPa to 1x10^-3 hPa
Ionization gauge:
Range: 10^-2 hPa to 1x10^-9 hPa
Capacitance vacuum meter sensor head:
Range: 10^-2 hPa to 10^-4 hPa
Pumps:
SHIMADZU TPH1503 Turbo-molecular pump
Rough vacuum pump SP630 plus WSU-2001
Sputter cathodes:
Type: Rotary cathode & water cooled
Material of backing tube: Stainless steel
Magnetic field: Static magnet array
Target: sprayed onto backing tube
Target length: 2150 mm
Planar cathode:
Type: DC Magnetron
Material of backing plate: Titanium with water cooling channels
ITO / MO BP
Al (2) BP
Magnetic field: Move mag
Target fixing: Bonding
Target length: 2100 mm
(2) 300 x 265 x 9 mm³ (Two end pcs)
1500 x 265 x 7 mm³ (Middle part segmented in pcs)
Heater system:
Heating chamber equipped with resistance heater which emits IR radiation
Mode of operation: PID Regulation
Heater set point capability: 650°C
Shielding:
Shielding material: Stainless steel
High sticking coefficient to prevent particle generation
Machine control system:
Programmable logic controller with decentralized IO’s
Digital & analog controls:
Pumps
Valves
Power supplies
Interlocks for water and compressed air
Error messages
Operating system: Windows
Cooling water:
Pressure: 5/7 Bar absolute
Maximum back pressure: Open drain
Water inlet temperature range: 18-25°C
Temperature level within: ± 2°C (for TMP’s only)
Hardness of water: 6-8°dH (Equivalent 107-143 ppm CaCO3)
Electric conductivity: 100 - 200 μS/cm
pH-Value: 8 - 10
Foreign particles size: Maximum 100 μm
Foreign particles concentration: Maximum 10/cm³
Dissolved Cl: Maximum 20 mg/l
Dissolved CO2: Maximum 15 mg/l
Compressed air:
Pressure: 6/8 Bar absolute
Sputter gases:
Argon
Oxygen
Nitrogen
Argon / Oxygen
Purity of sputter gas: 99.999 %
Venting gas: Nitrogen or dry compressed air
Dew point: ≤ -30°C
Pressure maximum: 1.5 Bar absolute
Ambient requirements:
Temperature at machine & machine control room: 20-30°C
Relative humidity: ≤ 60 %
Machine SiO2 / ITO Track consumption values:
Power: 760 kVA / 1000 A
Machine metal track consumption values:
Power: 1000 kVA / 1500 A
Electric power: 400 V ±10 %, 50/60 Hz, 3 Phase, 5 wires (3 AC, N, PE).
AMAT/APPLIED MATERIALS NAR 1800 Twin은 재료의 얇은 필름을 기판에 코팅하거나 입히도록 설계된 스퍼터링 장비입니다. 2 챔버 시스템입니다. 즉, 2 개의 독립적 인 진공 챔버 (vacuum chamber) 가 있으며, 이는 단일 운영주기에서 다른 재료를 스퍼터팅 할 수 있습니다. 이 장치는 무인 작업 (unattended operation) 을 위해 설정되며, 사용자는 필요한 필름이 배치될 때까지 매개변수를 설정하고 머신을 무인 상태로 둡니다. 고진공, 직류, 평면 마그네트론 스퍼터링 기술을 기반으로하며 트윈 음극으로 작동 할 수 있습니다. 이를 통해 전체 기판에서 높은 증착률과 우수한 균일성이 가능합니다. 기판 처리를 자동화하기 위해 load-lock으로 도킹할 수도 있습니다. 이 자산은 알루미늄, 스테인리스 스틸, 티타늄, 구리, 텅스텐 및 크롬과 같은 재료를 증착 할 수 있습니다. 또한 한 번의 작업주기 (operating cycle) 에 여러 개의 레이어를 배치하여 다중 레이어 박막 (thin film) 을 생성할 수 있으며 곡면에 오목하고 볼록한 구조를 생성 할 수도 있습니다. 작동 사양으로 볼 때, 모델은 진공 챔버 부피 4 리터, 기본 압력 2x10-7 토르, 2 개의 단면 평면 마그네트론의 음극 구성, 마그네트론 당 최대 2000 와트의 전력을 갖습니다. 이 장비는 직경 200mm까지의 기판을 수용 할 수 있으며, 실온에서 최대 600C까지의 기판 난방 범위를 갖습니다. AMAT NAR 1800 Twin은 안전하고 안정적인 스퍼터링 시스템으로 뛰어난 성능과 균일성을 제공합니다.
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