판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS ATON 1600 #9018803
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판매
ID: 9018803
빈티지: 2006
System
Application:
Coating method: MF Twin Mag Sputtering
Coating direction: sputter down
Coating influenced by gases
Electrical connection
3 phase, PE, N, AC 400 V, 50 Hz, Full-load-current: 986 A
Cycle time per carrier M01: ca. 60 sec.
Brut capacity (at 100% uptime): Aton: max. 5400 Wafer / h
Targets: Silicon M06 - Planar Twin Mag Cathode M08 - Rotatable Twin VAC - Mag Cathode
Gas: Ar - argon, N2 - nitrogen, NH3 - ammonia
Compressed air: pressure: 6 bar - 8 bar
Wafer: 150 mm x 80 mm
Carrier material: Carbon (CFC) 1800 mm x 920 mm, 90 Wafer / Carrier
Loader / Unloader / Carrier transport system: Jonas & Redmann
Retrofit: upgraded lock valve in 2008, upgraded cathode M08 to rotatable in 2011
Flooded with N2
Cooling water: emptied
2006 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS ATON 1600 스퍼터링 장비는 박막을 기판에 코팅하기위한 강력하고 다용도 시스템입니다. 그것 은 물리적· 화학적 증기 증착 방법 의 조합 으로 금속, 유전체, 반도체 재료 의 얇은 층 을 "웨이퍼 ', 기판 및 기타 성분 에 적용 한다. 대용량 생산/연구를 위해 설계되었으며, 다양한 맞춤형 구성 및 유연성 옵션이 제공됩니다. AMAT ATON 1600의 최대 크기는 600mm x 600mm x 250mm이며 최대 30 개의 웨이퍼를 수용 할 수 있습니다. 오토 챔버 클리닝 (auto chamber cleaning) 및 웨이퍼 처리 지그 (wafer-handling jig) 가 특징이며 작업의 요구에 맞게 조정됩니다. 최대 2000W의 플라즈마 전력을 생성 할 수있는 8 인치 플라즈마 발전기가 있으며 여러 전극 구성의 단일 또는 다중 대상 스퍼터링 (Single-Target Sputtering) 을 제공합니다. 또한 필름 모니터, 저항 모니터 및 웨이퍼 온도 센서로 구성됩니다. 로드 잠금 (Load Lock) 을 추가하면 냉각 단계에서 장치가 중단되지 않고 작동할 수 있으며 전체 주기 시간이 단축됩니다. 기계는 기존의 물리적 스퍼터링, Nano-Coating, Reactive Sputtering, Sheet Resistance 및 Overlay에 사용할 수 있습니다. 전력 및 유연성으로 인해 반도체, MEMS, 금속 도자기, IR 렌즈와 같은 많은 응용 프로그램에 적합합니다. 이 도구에는 직관적인 그래픽 사용자 인터페이스 (graphical user interface), 자동화된 프로세스 제어 자산 (automated process control asset), 전자 빔 게이지 (electron beam gauge) 가 있으며 단일 위치에서 원격으로 모니터링 및 작동 할 수 있습니다. 고급 프로세스 제어 옵션에는 레시피 프로그래밍, 프로세스 매개 변수 최적화, 실시간 피드백 및 감사가 포함됩니다. 이 모델은 진단 및 임시 실험도 가능합니다. 전반적으로, APPLIED MATERIALS ATON 1600 스퍼터링 장비는 기판의 박막 코팅을위한 고급적이고 강력한 도구입니다. 유연한 디자인과 고급 기능을 통해 대용량 생산/연구 애플리케이션에 적합합니다. 이 시스템은 효율적이고, 정확하며, 신뢰할 수 있도록 설계되었으며, 따라서 사용자는 박막 코팅의 품질과 생산량을 극대화할 수 있습니다.
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