판매용 중고 AJA ATC 3400-V #9213688

AJA ATC 3400-V는 높은 DOI 박막 응용 프로그램을 위해 설계된 고성능 스퍼터 장비입니다. 이 시스템은 전자 빔 증발 기술을 사용하여 복잡한 산화 "알루미늄 '박막 (thin film) 을 높은 속도로 효과적으로 스퍼터링합니다. 고밀도 플라즈마를 균일하게 생성하고 탁월한 균일 한 증착률을 제공하는 고성능 이온 소스 (ion source) 를 2 개 사용하여 우수하고 비용 효율적인 증착 제어를 제공합니다. 이 장치는 수직 또는 수평 구성으로 작동 할 수 있으며 직류 (DC) 및 교류 (AC) 작동과 호환되도록 설계되었습니다. ATC 3400-V 는 자동화된 프로세스 모니터링 및 제어 기능을 제공하며, 고급 이온 빔 분석 (IBA) 기술을 제공하여 원소 분포 및 곡물 크기를 측정하고 필름 내의 곡물 크기 분포를 측정합니다. 이 기계는 스퍼터링을위한 6 가지 표준 대상 옵션 (Al-Ni 대상, Al-SiC 대상, Ni-C 대상, Al-Ta 대상, Al-Sn 대상 및 Al-Cu 대상) 을 제공합니다. 또한이 도구는 외부 가스 에셋을 제공하며, 이 에셋을 통해 2-Al2O3, 2-Al2O3 및 TiO2의 스퍼터링을 허용합니다. 이 모델에는 스퍼터 프로세스 (Sputter Process) 의 이상을 파악하고 문제를 진단할 수 있는 온라인 서비스 모니터 (Online Service Monitor) 도 포함되어 있습니다. AJA ATC 3400-V의 작동 환경 온도 범위는 4 ° C ~ 40 ° C이며 상대 습도 범위는 0% -85% 입니다. 최대 12 인치 직경의 기판을 수용 할 수있는 2 개의 가열 하중 잠금을 제공합니다. ATC 3400-V 의 견고한 설계는 최대 20 m/min 의 높은 증착율을 제공하여 대용량 생산에 적합합니다. AJA ATC 3400-V는 물리적/전자적 안전 기능을 모두 갖춘 안전성을 고려하여 설계되었습니다. 이 장비에는 안전 엔클로저 (Safety Enclosure) 와 E-STOP (E-STOP) 스위치가 포함되어 있어 필요에 따라 빠르고 쉽게 시스템을 종료할 수 있습니다. 또한, 이 장치는 원격 네트워크 (remote network) 를 통해 제어할 수 있으며, 동일한 위치에 있지 않고 기계를 작동시킬 때 안심할 수 있습니다. 결론적으로, ATC 3400-V는 고 DOI 박막 생산에 적합한 고성능 스퍼터링 도구입니다. 자동 (automated) 프로세스를 통해 증착율을 모니터링하고 제어할 수 있으며, 다양한 고성능 이온 소스 (ion source) 및 타겟 옵션을 제공합니다. 또한 높은 증착율 (Deposition Rate) 을 위해 견고한 구성 요소와 안심할 수 있는 안전 기능을 갖추고 있습니다.