판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9386335

AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA
ID: 9386335
웨이퍼 크기: 12"
Etcher, 12" (2) Minos Carina Axiom.
AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA Reactor는 고급 증착 장비와 재료 관리 기능의 조합으로, 반도체 웨이퍼 제조를위한 독특한 CVD (chemical vapor deposition) 공정 및 장비 솔루션을 제공합니다. AMAT CENTURA (AMAT CENTURA) 는 모듈식 다용도 시스템으로 전체 웨이퍼 제작 생산률의 최대 92% 를 달성 할 수 있습니다. APPLIED MATERIALS CENTURA Reactor는 음극과 양극의 두 가지 주요 구성 요소로 구성됩니다. 음극은 CVD 증착의 주요 공급원이며, 가스 입구, 반응 챔버 및 가스 배기 포트로 구성됩니다. 양극은 전자원 역할을하는 반면, 반응 챔버 (reaction chamber) 는 반응 가스에서 플라즈마를 생성하는 데 사용되며, 그 후 웨이퍼 표면 (wafer surface) 으로 추진된다. "가스 '입구 는 반응물" 가스' 의 흐름 을 조절 하여 CVD 과정 을 정확 히 제어 할 수 있게 한다. CENTURA Reactor 는 다양한 기능을 제공하여 상호 연결, 확산 영역, 메모리 합금 (memory alloy) 기능, 기타 기능 등 다양한 칩 레벨 디바이스를 생산할 수 있습니다. 또한 "알루미늄 '이나" 니켈' 과 같은 재료 의 박막 을 입금 할 수 있다. AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA Reactor는 화학 기계 연마, 확산 청소 및 패턴화와 같은 웨이퍼 포스트 처리를 수행 할 수도 있습니다. AMAT CENTURA Reactor의 단일 웨이퍼 처리 장치 (single wafer handling unit) 는 CVD 프로세스의 모든 단계를 고속 단일 패스로 완료하여 생산 효율성 및 생산성을 높입니다. SPC (Statistical Process Control) 소프트웨어는 CVD 프로세스를 정확하게 제어하여 재현 가능한 결과와 우수한 수율을 보장합니다. APPLIED MATERIALS CENTURA Reactor는 완전히 자동화 된 진공기에서 작동하여 공정의 안정성, 반복성, 재생산을 보장하도록 설계되었습니다. 이 툴을 사용하면 웨이퍼 (wafer) 와 여러 운영 사이트 간에 레시피 (recipe) 를 효율적으로 공유하고 정보를 처리하여 효율성과 처리량을 높일 수 있습니다. 센츄라 원자로 (CENTURA Reactor) 는 하이브리드 (hybrid) 원자로 환경에서 작동 할 수 있으며, 같은 자산의 다른 원자로와 함께 사용할 수 있습니다. AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA Reactor는 강력하고 다양한 모델로, CVD 프로세스를 완벽하게 제어하고 다양한 복잡한 장치를 만들 수 있습니다. 반도체 소자 제조업체에게는 필수불가결한 도구인데, 우수한 수율, 높은 생산 속도, 낮은 운영 비용 (영업비) 을 제공합니다. 이 장비는 대용량 웨이퍼 (wafer) 제작에 적합하며 칩 레벨 장치에 이상적인 솔루션입니다.
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