판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9312776

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ID: 9312776
웨이퍼 크기: 6"
System, 6" WxZ Tungsten chamber Etch back chamber, WxZ.
AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA는 고급 처리 응용 프로그램을 위해 설계된 멀티 챔버 원자로입니다. 에피 택시 (epitaxy) 성장, 에칭, 드라이 에칭, 금속 증착 등 다양한 까다로운 작업을 처리하는 데 적합합니다. AMAT CENTURA는 대량 생산 장비로, 신뢰성이 높고 효율적입니다. 원자로는 독립적 인 소스 챔버, 공정 챔버 및 로드 락 챔버 (load lock chamber) 로 구성됩니다. 동적 설계 (dynamic design) 가 특징이며, 다양한 프로세스에 최적화된 따뜻한 영역이 있습니다. 챔버 제어 및 격리 시스템은 안전한 운영을 제공하고 프로세스 환경을 보호합니다. 응용 재료 센츄라 (APPLIED MATERIALS CENTURA) 는 여러 가열 및 냉각 영역을 제공하여 각 공정 챔버의 온도를 빠르게 변경하여 최적의 열 안정성을 제공합니다. 또한, 뒷면 웨이퍼 히터는 균일 한 온도를 가능하게하여 핫스팟 및 기타 신뢰성 문제를 방지합니다. CENTURA는 또한 챔버의 압력을 제어 할 수 있습니다. 지속적인 흐름 원리와 자체 보상 압력 제어 시스템을 사용합니다. 이렇게 하면 프로세스 환경이 안정적이고 에칭 (etching) 프로세스가 균일합니다. AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA 원자로는 또한 균일성을 보장하고 프로세스 성능을 향상시키기 위해 여러 프로세스 제어 도구를 제공합니다. 이 도구를 사용하면 가스 흐름을 모니터링하고, 기판 온도를 제어하고, 압력 값을 조정할 수 있습니다. 또한, 통합 자동 웨이퍼 처리 시스템 (automated wafer handling system) 은 챔버 간에 빠르고 편리하게 웨이퍼를 전송할 수 있는 기능을 제공합니다. 또한 AMAT CENTURA 원자로에는 강력한 안전 및 유지 보수 장치가 장착되어 있습니다. 이 시스템에는 자동 과부하 방지, 센서 제어 작업, EOL (End-of-Run) 진단 및 예측 유지 관리 도구와 같은 기능이 포함되어 있습니다. 이를 통해 원자로 (reactor) 가 항상 최고 성능으로 작동하도록 보장하고, 프로세스 결과를 명시대로 보장할 수 있습니다. 전반적으로 APPLIED MATERIALS CENTURA는 복잡하고 처리량이 많은 프로세스 어플리케이션을 위해 설계된 안정적이고 효율적인 원자로입니다. 다양한 프로세스 제어 툴 (process control tools) 과 자동화된 웨이퍼 처리 시스템 (wafer handling system) 을 통해 다양한 프로세스를 손쉽게 관리할 수 있습니다. 게다가, 강력한 안전 및 유지보수 자산 (Safety and Maintenance Asset) 은 원자로 (Reactor) 가 효율적으로 수행되고 안정적인 프로세스 결과를 얻을 수 있다는 자신감을 사용자에게 제공합니다.
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