판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9282472

AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA는 반도체 처리에 사용되는 증착 원자로입니다. 원자 층 증착 (ALD), 화학 증발 (CVD) 및 스퍼터링과 같은 다양한 기판 증착 기술을 가능하게하기위한 업계 최고의 플랫폼입니다. 반도체 제조업에서 가장 널리 사용되는 플라즈마 강화 도구 중 하나입니다. AMAT CENTURA 원자로는 각 개별 프로세스의 요구 사항에 맞게 조정할 수있는 멀티 스텝 프로세스 시퀀스를위한 플랫폼을 제공합니다. 이러한 서열에는 열 처리, 플라즈마 기반 증착, 에칭 및 이온 임플란테이션이 포함됩니다. 이러한 유연성을 통해 공구를 광범위한 증착 프로세스 (deposition process) 애플리케이션에 사용할 수 있습니다. 또한, 원자로에는 프로세스를 실시간으로 모니터링하는 데 사용되는 다양한 고급 분석 도구 (advanced analytical tools) 가 장착 될 수 있습니다. Advanced Materials APPLIED MATERIALS CENTURA (Advanced MATERIALS APPLIED CENTURA) 원자로는 고객의 구체적인 요구 사항을 충족하도록 구성될 수 있는 광범위한 프로세스 및 챔버 구성 요소로 설계되었습니다. 주요 구성 요소로는 고진공 챔버, 고순도 가스 분포 및 스크러빙 장비, 전기 충전 시스템 및 온도 조절 시스템이 있습니다. 방에는 들어오는 웨이퍼, 가스, 온도 센서를 빠르고 정확하게 모니터링 할 수있는 충분한 포트가 장착되어 있습니다. CENTURA 원자로는 기판 온도, 가스 구성 및 공정 압력을 잘 제어합니다. 이 제품은 저항적으로 가열 된 기판 척 (chuck), 램핑 압력 장치 (ramping pressure unit) 및 고급 가스 흐름 제어기와 같은 업계 최고의 여러 기술을 갖추고 있습니다. 이러한 기능은 더 높은 수준의 프로세스 제어 (process control) 를 제공하며, 이는 일관성 있고 반복 가능한 프로세스를 달성하는 데 중요합니다. AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA 원자로는 또한 APC (Automated Process Control) 및 IPM (In-Situ Process Monitoring) 시스템과 같은 고급 도량형 기능을 갖추고 있습니다. APC는 일상적인 측정 데이터를 사용하여 프로세스 매개변수가 회의 및/또는 미리 정의된 대상 조건을 초과하는지 여부를 결정합니다. 이는 증착 중 공정 (process) 드리프트를 빠르게 감지하고 제품의 품질이 손상되지 않도록 방지할 수 있습니다. IPM은 기계 아키텍처 내에서 원자로의 실시간 증착 프로세스 데이터 (real-time deposition process data) 를 모니터링하는 기능이다. 이를 통해 기판 균일성과 프로세스 제어가 유지됩니다. AMAT CENTURA 원자로는 여러 복잡한 반도체 처리 응용 분야를위한 비용 효율적이고 안정적인 도구입니다. 고급 도량형 (Metrology) 기능, 프로세스 제어 기능 및 유연성을 통해 고품질 프로세스에 적합합니다.