판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9251311

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ID: 9251311
웨이퍼 크기: 8"
빈티지: 1996
PVD System, 8" Load lock: Body type: Narrow Indexer: Automated Buffer chamber: HEWLETT-PACKARD Robot Metal blade Chamber A: GAMMA II TiN (ESC) Chamber B: GAMMA II TiN (ESC) Chamber C: PC-II Chamber D: Cool down Chamber F: Oreintor degas Generator rack 1 0190-76118 Remote AC rack No generator rack 2 No NESLAB Missing parts: NESLAB0190-76118 Chiller Cool chamber upper 0190-01893 PVD DC Power supply 3 kV (2) Heater drivers SBC BD (2) Ion gauge BD FDD DI/O BD AI/O BD Robot indexer cable (2) CRT (2) ESC Chuck assy Ch#A, B (2) Heater lift motors (2) Matchers (2) 3620-01389 Compressors Signal cable 0150-20678 Remote rack to Ch#A pump RJ13 - 50 ft 0150-20678 Remote rack to Ch#B pump RJ14 - 50 ft 0150-20678 Remote rack to Buffer pump RJ11 - 50 ft 0150-20678 Remote rack to LL pump RJ12 - 50 ft 1996 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA는 많은 반도체 제조 시설의 주류인 CVD/PVD (High-Level Chemical and Physical Vapor Deposition) 원자로입니다. AMAT CENTURA는 다양한 기판 크기에 대해 고속 및 고정밀 박막 증착 프로세스를 수행 할 수 있습니다. 이 장비에는 에치 (etch) 및 증착 제어 (deposition control) 와 저온, 균일성 박막 증착이 가능한 고급 자동 제어 기술이 장착되어 있습니다. 원자로의 디자인은 또한 최적 성능을 위해 통합, 직접 결합 펌프 (coupled pump) 및 강력한 열 제어 기술을 갖추고 있습니다. APPLIED MATERIALS CENTURA는 실리콘 기반 반도체 제작 프로세스에 사용하도록 설계되었습니다. 주로 컴퓨터, 휴대 전화와 같은 다양한 전자 제품에 일반적으로 사용되는 박막 트랜지스터 (TFT) 및 집적 회로 (IC) 의 생산에 사용됩니다. CENTURA는 또한 OLED, AMOLED 및 기타 평면 패널 디스플레이 기술과 같은 반도체 광검출기 및 디스플레이 기술을 생산하는 데 사용됩니다. 원자로 는 "로봇 '과" 인덱서' "시스템 '으로 구성 된 정확 한 기판 처리 기술 을 사용 하여 크기 가 0.5 내지 12" 인치' 에 달하는 정확 하고 자동화 된 기판 처리 를 한다. AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA에서 제공하는 정확한 처리는 기판에 손상을 입히지 않고 정확한 에치 및 박막 증착을 허용합니다. 또한 고급 진단 (Advanced Diagnostics) 패키지를 사용하여 프로세스를 실시간으로 모니터링하고 필요한 경우 프로세스를 자동으로 조정합니다. 이 기계는 또한 고급 제어 소프트웨어 (Advanced Control Software) 를 장착하여 다양한 어플리케이션에 대한 정밀 증착 및 에치 제어 (etch control) 를 허용합니다. 이를 통해 공정 안정성을 보장하기 위해 증착 공정 (deposition process) 과 정확한 에치 (etch) 및 증착률 (deposition rate) 을 정확하게 제어할 수 있습니다. 이 소프트웨어는 또한 정확하고 반복 가능한 레이어 프로파일을 허용하여 정밀한 박막 증착 및 에칭 결과를 보장합니다. AMAT CENTURA는 가장 진보적이고 신뢰할 수있는 화학적 및 물리적 증기 증착 (CVD/PVD) 도구입니다. 다양한 기판 크기에 대한 고속 및 고정밀 박막 증착 공정 (high-precision thin-film deposition process) 이 가능하여 전 세계 많은 반도체 제작 시설에서 선호되는 자산입니다. 이 모델의 정확한 처리 및 고급 제어 기술 (Advanced Control Technology) 은 시장에서 가장 안정적이고 정확한 시스템 중 하나입니다.
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