판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9250769

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Enabler는 다양한 반도체 공정을 위해 설계된 화학 증기 증착 (CVD) 원자로입니다. CVD 전구체의 박막 (thin-film) 과 장벽 층 (barrier layer) 의 성장을 통해 다양한 가공소재 기판에 복잡하고 훌륭한 구조를 형성 할 수 있습니다. AMAT Centura Enabler는 빠른 온도 램프를 쉽게 수용 할 수있는 고급 단일 웨이퍼 (single-wafer) 공정 챔버를 갖추고 있습니다. 이 챔버는 전체 웨이퍼에서 0.3 ° C 이내의 균일성을 가능하게하여 성능 향상과 프로세스 신뢰성 향상을 지원합니다. Enabler에는 Flex Temperature Control Design (Flex Temperature Control Design) 이 장착되어 있습니다. 이 기술을 사용하면 프로세스 크리티컬 치수 (CD) 정확도를 손상시키지 않고 온도를 정확하게 제어 할 수 있습니다. APPLIED MATERIALS Centura Enabler (APPLIED MATERIALS Centura Enabler) 를 통해 가공소재 열 처리 기능이 향상되었습니다. 이는 광범위한 프로세스에 대한 가스를 정확하게 전달하는 동시에 기판 온도에 대한 탁월한 제어를 제공합니다. 원자로에는 듀플렉스 가스 패널 (duplex gas panel) 과 멀티 소스 (multi-source) 고속 가스 밸브 (high-speed gas valve) 가 장착되어 있으며, 둘 다 제조 환경의 요구에 가장 적합하도록 완전히 맞춤 구성할 수 있습니다. Centura Enabler는 고급 PID 제어 루프를 통합하여 용광로 온도 및 압력을 관리합니다. 이 제어 루프 (Control Loop) 는 고온 (High Temperature) 설정과 저온 (Low Temperature) 설정 모두에서 성능을 최적화하고 재료 증착 시 정확한 온도 조절을 보장하도록 조정할 수 있습니다. 원자로는 또한 저압 플라즈마 소스 및 원격 플라즈마 제어를 특징으로합니다. 이것 은 "플라즈마 '를 정확 하게 제어 할 수 있게 해 주며, 매우 다양 한 공정 화학 물질 을 사용 할 수 있게 해 준다. AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Enabler는 높은 생산성을 염두에 두고 설계되었으며, 빠른 열 사이클 시스템을 갖추고 있습니다. 즉, 고속 가열 및 냉각 (cool-down) 시간이 가능하므로 운영 처리량을 높일 수 있습니다. 원자로는 또한 병렬 공정 챔버 기술을 통합하여 여러 프로세스를 지원합니다. AMAT Centura Enabler는 생산량과 신뢰성을 높이려는 프로토 타입 및 프로덕션 패브에 이상적입니다. 종합적이고 유연한 기능으로, 현대 반도체 산업을위한 귀중한 도구입니다.