판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9121573

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ID: 9121573
웨이퍼 크기: 8"
빈티지: 1998
RTP System, 8" (2) Mod 1 Chambers SNNF Loadlock: Wide body Signal tower Software version: C4.01a Hard drive GEM OTF Mainframe information: HP Robot type L/L Wafer mapping Robot blade: Quartz W/F Slippage sensor: Slide detect N2 Purge Chamber types: Chamber A: Mod1 ATM RTP Chamber B: Mod1 ATM RTP Chamber D: Cool Chamber F: Cool Gas configuration: Chamber A MFC 1 N2: Tylan 10L MFC 2 N2: Tylan 20L MFC 3 O2: Tylan 5L MFC 4 NH3: Tylan 10L Chamber B MFC 1 N2: Tylan 10L MFC 2 N2: Tylan 20L MFC 3 O2: Tylan 5L MFC 4 NH3: Tylan 10L 1998 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA는 AMAT가 제작 한 대규모 다목적, 생산 규모의 반도체 제작 원자로입니다. 이 장비는 고정밀도 및 고수율 (high-yield) 부품에 대한 반도체 업계의 갈수록 증가하는 요구를 충족할 수 있도록 설계되었습니다. 이 시스템에는 최첨단 기술 (최첨단 기술) 과 뛰어난 생산 성능을 보장하는 고유한 기능 세트가 포함되어 있습니다. AMAT CENTURA 원자로는 갈륨 비소 (GaAs) 플랫폼을 기반으로하며 최대 3.5 인치 크기의 가상 웨이퍼 크기를 만들 수 있습니다. 집적 회로 구조, 박막 및 고밀도 상호 연결 (HDI) 기판을위한 초정밀 부품을 생산할 수 있습니다. 이 장치는 DRIE (Deep Reactive Ion Etching) 및 PVD (Physical Vapor Deposition) 레이어를 모두 위해 완벽한 기능을 제공하도록 설계되었습니다. 기계의 주요 특징은 높은 듀티 사이클 (high duty cycle), 뛰어난 재료 특성 및 뛰어난 프로세스 제어입니다. 즉, 고속 생산 기능을 통해 부품을 신속하게 제작하고 반도체 제작의 운영 주기 (operating cycle) 를 줄일 수 있습니다. 이온 및 광자 빔 머시닝 (photonic beam machining) 기능을 통해 업계에서 필요한 높은 정확도를 달성할 수 있습니다. 또한 다양한 프로세스 구성에 손쉽게 적응할 수 있으며, 수요 (demand) 를 수용하도록 신속하게 재구성할 수 있습니다. 이 도구는 또한 매개변수에 대한 실시간 모니터링 및 보고, 기판 등록 및 배치, 입자 제어, 챔버 압력 및 진공 청결, 챔버 프로파일 감지, 프로세스 매개변수 최적화 등 완전한 프로세스 제어 기능을 제공 할 수 있습니다. 또한, 이 자산은 프로세스 변경 사항을 효과적으로 처리하고 처리량을 증가시키는 다양한 자동화 옵션 (automation options) 과 빠르고 안정적인 제품 제작을 위한 레시피 라이브러리 (library of recipe) 를 갖추고 있습니다. APPLIED MATERIALS CENTURA (APPLIED MATERIALS CENTURA) 원자로는 최고 수준의 품질 요구 사항을 충족하고 안정성과 정확성을 제공하는 한편, 처리량을 높이고 수작업 프로세스와 관련된 많은 시간 지연을 줄여줍니다. 이 모델은 뛰어난 제어성과 반복성을 지닌 고성능, 고해상도 나노 구조 구조의 생산에 이상적입니다.
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