판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9098405

AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA 원자로는 반도체 산업의 웨이퍼 (wafer) 와 같은 기판에 박막 증착에 사용되는 화학 증기 증착 (CVD) 장비입니다. 이 시스템은 실리콘, 갈륨 비소 (gallium arsenide), 질화 티타늄 (titanium nitride) 및 기타 다양한 금속 및 산화물을 포함한 광범위한 물질에서 높은 증착 속도와 균일 성을 가질 수 있습니다. AMAT CENTURA 원자로는 균일 한 온도 조절로 "핫스팟 (hotspot)" 을 제거하고, 정밀한 가스 및 압력 제어를 제공하며, 질량이 낮은 타이트한 공정 챔버 설계를 통해 열 손상을 최소화하고 입자를 최소화하도록 설계되었습니다. 이 단위는 적외선 램프 또는 전기 가열 "힌지 (hinge)" 요소에 의해 제어 된 온도이며, 공정 균일성을 집중하고 향상시키기 위해 피로 자기 장 (pyromagnetic field) 을 특징으로합니다. 응용 재료 센츄라 (CENTURA) 원자로는 부식 내성 및 화학 관성을위한 높은 순도 탄탈럼과 더 나은 공정 자동화를 위해 스테인리스 스틸 라이너 (stainless steel liner) 로 건설됩니다. 이 기계는 또한 낮은 미립자 설계를 특징으로하며, 오염 위험을 최소화하는 데 도움이되며 TEOS 스크러버 (scrubber) 및 촉매 변환기 (catalytic converter) 를 포함하는 배기 도구를 제공합니다. CENTURA 원자로는 단일 및 이중 소스 공정으로 작동하도록 프로그래밍 될 수 있으며, 얕은 트렌치 격리, 이중 다마신, 화학 기계 평면 화 (CMP), 살리살 공정 등 다양한 성장률에 적합합니다. 압력, 온도, 공정 시간 및 분자 빔 기법을 정확하게 제어하여 뛰어난 균일성, 밀도 및 선형성 (램프 업 및 램프 다운) 을 제공합니다. AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA와 함께 사용할 수 있는 고성능 외에도, 이 자산은 사용하기 쉽습니다. 이 인터페이스를 통해 사용자는 레시피 (recipe) 와 스케줄 (schedule) 에서 전력 및 가스 제어 (power and gas control) 에 이르기까지 프로세스의 모든 측면을 정확하게 제어 할 수 있으며, 증착 과정에서 기판층 두께를 정확하게 예측할 수 있습니다. 또한 확장 가능하고 업그레이드 가능한 모델로, 변화하는 요구 사항에 맞게 장비를 손쉽게 조정할 수 있습니다 (영문). 전반적으로 AMAT CENTURA는 독특한 디자인, 뛰어난 성능 및 유연성으로 인해 최고의 CVD 시스템입니다. 열적 손상이 최소화되고, 증착률이 높고, 정밀도가 높은 고화질 (고화질) 의 결과를 낼 수 있습니다. 이러한 이유로, 이 장치는 프로세스 개발, 생산 및 자격 (QA/QC) 테스트를 위해 반도체 산업에서 널리 사용됩니다.