판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9072602

AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA는 반도체, 태양 광 및 디스플레이 시장을위한 결정 실리콘의 박막 증착을 제공하는 특수 화학 증기 증착 (CVD) 원자로입니다. "아마트 센츄라 '는 얇고 등각 된" 실리콘' 층 을 고온 에서 증착 시키도록 설계 되어 있으며, 균일성 이 뛰어난 결정질 의 "실리콘 '층 을 만들어 낸다. 이 반도체 제작 공정은 규소 웨이퍼의 게이트, 상호 연결, 트랜지스터, 기타 회로 장치 등의 기능을 생성하는 데 사용됩니다. APPLIED MATERIALS CENTURA 원자로는 균일성과 신뢰성이 높은 장치의 증착을 위해 350 ~ 1,000 ° C 사이에서 높은 온도에 도달 할 수 있습니다. CENTURA는 실리콘 증착을위한 일반적인 방법 인 저압 CVD (LPCVD) 도구의 한 유형입니다. 이 LPCVD 원자로는 실리콘 함유 전구체 (예: 실란, 디클로로 실란 또는 트리클로로 실란) 및 기타 반응물을 가열 된 챔버로 전달함으로써 작동한다. 원자로 내에서, 반응물은 열에너지를 사용하여 이산화실리콘 (silicon dioxide) 또는 질화 실리콘 필름 층 (silicon nitride film layer) 을 형성하여 분해되고 재조합된다. 원자로 내에서 달성 된 온도와 압력은 10 나노미터 미만의 매우 얇은 두께로 고품질의 결정화 된 실리콘 필름 (silicon film) 의 형성을 가능하게한다. AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA는 200mm 웨이퍼 기판에서 0.3 미크론 이내의 로컬 균일 성과 기판 전체에서 우수한 균일 성을 달성 할 수 있습니다. 이 고도의 균일성은 장치 수율이 높은 와이어 및 기타 기능을 생산하는 데 도움이됩니다. 또한, AMAT CENTURA는 처리량이 매우 높아 태양 전지, 트랜지스터 및 기타 반도체 부품에 많은 양의 층을 빠르게 증착 할 수 있습니다. APPLIED MATERIALS CENTURA의 또 다른 주요 특징은 초저 입자와 입자입니다. 원자로는 입자를 0.3 미크론 크기로 측정하여 증착 과정에서 입자의 양을 크게 줄이고, 결함이 최소화 된 신뢰할 수있는 장치의 높은 수율을 가능하게한다. & # 160; CENTURA의 낮은 입자율은 또한 제품 수명 주기 수명을 보장하는 데 도움이됩니다. AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA는 효율적이고, 균일하며, 신뢰할 수 있는 구성 프로세스를 제공하여 단일 레이어 및 다중 레이어 증착을 모두 제공합니다. 업계를 선도하는 이 CVD (CVD) 툴은 반도체 업계의 제조업체가 오늘날의 기하학 (Geometries) 및 장치 크기 축소에 필요한 높은 정확성과 반복 가능한 성능을 달성할 수 있도록 해 주었습니다.