판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9052291
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판매
ID: 9052291
웨이퍼 크기: 8"
Rapid thermal processing system, 8"
ISSG Process
XE+ ISSG Chamber
SiNGEN Chamber
PolyGen Chamber
Cool Down Station
2000 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA Reactor는 실리콘 기반 반도체 부품 제조에 사용되는 화학 증기 증착 (CVD) 장비입니다. 이 시스템은 실리콘 웨이퍼, 금속, 유기 재료 등 다양한 기판에 박막 층을 증착 할 수 있습니다. CVD (CVD) 는 기질을 고온으로 가열하고 전구체를 서로 반응시켜 박막 성장을 촉진한다. 이 과정은 또한 전체 웨이퍼 표면에서 균일 한 필름 성장을 보장합니다. AMAT CENTURA Reactor는 반도체 산업에서 수십 년 동안 경력을 쌓은 제품입니다. 이 제품은 다른 CVD 시스템들 사이에서 탁월한 성능을 자랑하는 프로세스 반복 (process repeatability) 기능을 통해 탁월한 성능을 제공합니다. 이 단위는 유전체, 금속, 산화물, 질화물 및 폴리 실리콘에 이르기까지 광범위한 물질을 침전시킬 수 있습니다. 또한 고급 프로세스 제어 (process control) 기능을 통해 엔지니어가 프로세스를 세밀하게 조정하여 효율성 및 성능을 향상시킬 수 있습니다. APPLIED MATERIALS CENTURA Reactor는 또한 다양한 안전 및 환경 보호 기능을 갖추고 있습니다. 이 약실은 부식 내성 스테인리스 스틸 (stainless steel) 로 만들어졌으며 민감한 부품과 기판을 오염으로부터 보호하도록 설계되었습니다. 또한, 원자로는 저온 및 저압 조건을 지원하므로, 민감한 응용 분야에 사용하기에 적합합니다. 동봉 된 기판 테이블 및 소스 재료 챔버는 또한 유해 가스 및 연기에 대한 노출을 최소화합니다. CENTURA Reactor는 고급 모니터링 및 제어 기능도 제공합니다. 따라서 필요에 따라 Reaction Process 매개변수를 쉽게 구성하고 자동으로 조정할 수 있습니다. 이를 통해 일관된 필름 증가와 안정적인 성능을 보장할 수 있습니다. 또한, 정교한 모니터링 머신 (monitoring machine) 은 프로세스에 대한 자세한 통찰력을 제공하여 엔지니어가 원하는 결과를 얻을 수 있도록 프로세스를 조정하고 최적화할 수 있도록 합니다. 요약하면, AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA Reactor는 반도체 부품 제조에 사용되는 강력한 CVD 도구입니다. 탁월한 성능, 고급 프로세스 제어 기능, 최적화된 안전 및 환경 보호 기능, 포괄적인 모니터링/제어 기능 등을 갖추고 있습니다. 이를 통해 AMAT CENTURA Reactor는 유능하고 안정적인 CVD 자산을 찾는 모든 제작 실험실에서 완벽한 선택을 할 수 있습니다.
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