판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #293649931

ID: 293649931
웨이퍼 크기: 12"
Etcher, 12" OEM Process Transfer chamber (3) Chambers (2) AC Racks Loader Missing parts.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Enabler는 박막 증착을 위해 설계된 자기장 보조 플라즈마 기반 PVD (Physical Vapor Deposition) 원자로입니다. 액블러 (Enabler) 는 냉벽 RF 마그네트론 (magnetron) 프로세스로 설계되어 열 열원이 필요하지 않으며, 낮은 처리 온도에서 고품질의 결함이 없는 박막 (thin film) 을 생산할 수 있습니다. 그것 은 광범위 한 증착 속도 를 낼 수 있으며, 증착 주기 당 몇 개 의 "앙스트롬 '에서 수" 마이크로 미터' 까지 처리 할 수 있다. AMAT Centura Enabler는 고성능 저전력 RF 발전기와 컴팩트하고 조절 가능한 RF 안테나 플래튼을 갖추고 있습니다. 고주파 RF 생성기와 조절식 RF 안테나 플래튼 (platen) 을 조합하면 물리적 증기 증착 공정을 정확하게 제어할 수 있으며 사용 가능한 플라즈마 전원을 효율적으로 사용할 수 있습니다. 발전기 는 "와트 '수 에서 수백" 와트' 에 이르는 여러 가지 전력 수준 을 만들어 내어 증착 과정 을 정확 히 제어 할 수 있다. 또한 조정 가능한 RF 안테나 플래튼 (platen) 을 사용하면 배치되는 특정 재료를 기준으로 RF 안테나의 배치 및 방향을 조정할 수 있습니다. APPLIED MATERIALS Centura Enabler (APPLIED MATERIALS Centura Enabler) 는 정교한 모니터링, 제어 및 안전 시스템을 갖추고 있으며, 사용자가 프로세스 매개변수를 실시간으로 조정하여 균일성과 반복성을 최적화할 수 있습니다. 모니터링 시스템은 또한 다양한 프로세스 조건 (Process Condition) 을 기록하여 문제 해결 및 유지 보수 작업에 도움이 되는 증설 성능 (Deposition Performance) 을 상세하게 분석 및 검증할 수 있습니다. Centura Enabler의 고급 설계 및 광학은 화학 증기 증착 (CVD), 혈장 강화 화학 증착 (PECVD) 및 원자층 증착 (ALD) 을 포함한 광범위한 증착 기술을 허용합니다. 이러한 기술을 통해 금속 산화물, 나노 구조 탄소, 높은 표면 에너지 재료 등, 기술적으로 가장 까다로운 물질을 증착 할 수 있습니다. 가스전달시스템 (Gas Delivery System) 을 갖춘 Enabler 는 한 가지 공정으로 각기 다른 재료를 섞어 보관할 수 있습니다. AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Enabler (AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Enabler) 는 매우 다양한 기능으로, 다양한 기능과 기능을 제공하여 안정적이고 반복 가능한 방식으로 가장 고급 재료를 처리 할 수 있습니다. 현대의 플라즈마 증착 (plasma deposition) 기술을 활용하여, Enabler는 오늘날 기술에 사용되는 가장 복잡한 재료를 만드는 데 도움이 될 수 있습니다.
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