판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #110367

AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA Reactor (AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA Reactor) 는 반도체 제조에 사용되는 도구 유형으로, 고성능 및 최첨단 반도체 부품 제조에 사용할 수 있는 플라즈마 기반 처리 및 에칭 기능을 제공합니다. 고급 전자 포장, 메모리 칩 제조, 모바일 어플리케이션, 디스플레이와 같은 초슬림 장치 (ultra-thin device) 와 같은 대용량 생산 작업에 사용하도록 특별히 설계되었습니다. AMAT CENTURA Reactor (AMAT CENTURA Reactor) 는 고급 플라즈마 에치 기술과 고도로 다용도 및 통합 설계를 결합하여 고급 프로세스 제어 및 정확한 정밀도가 필요한 제조업체에 대여합니다. 원자로는 이중 동작 대상 도금 및 고속 열 처리를 사용하여 뛰어난 성능을 제공합니다. APPLIED MATERIALS CENTURA Reactor는 DC 및 RF 모드에서 플라즈마 기능에 도달하는 기능과 같은 다양한 기술적 이점을 제공합니다. 이를 통해 프로세스에 대한 추가 수준의 제어 및 유연성을 제공하여, 에칭 (etching) 및 표면 처리 (surface treatment) 와 같은 프로세스를 세밀하게 튜닝할 수 있습니다. 또한, 원자로는 중요한 에칭 작업에서 최대 2 단계의 공정 제어 (process control) 와 일치하지 않는 정확도로 고정밀 에치 제어를 가능하게합니다. 이는 전체 처리 시간 (processing time) 에도 적용되어 주기 단축, 처리량 향상, 완제품 제공 시간 단축 등의 효과를 제공합니다. CENTURA Reactor는 2 단계 가스 정화 시스템에 의한 잠재적 식각 오염으로부터 보호됩니다. 이것 은 모든 공정 "가스 '를 적절 히 여과 하여, 미립자 혹은 이물질 이" 에칭' 실 에 들어가서 잠재적 인 공정 분산 을 도입 할 가능성 을 감소 시킨다. 또한, 설계를 통해 필터를 빠르고 쉽게 대체할 수 있으며, 따라서 프로세스는 일관되고 중단되지 않습니다. AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA Reactor는 또한 고성능 안전 기능과 최첨단 자동화를 갖추고 있습니다. 원자로의 제어 루프 (control loop) 는 압력, 온도, 챔버 온도 등을 실시간으로 제어하여 일관된 성능과 안정적인 작동을 보장합니다. 또한, 통합 머신 보호 (Integrated Machine Protection) 기능은 정교한 과부하 보호 시스템을 통해 잠재적 인 프로세스 오작동을 방지합니다. AMAT CENTURA Reactor (AMAT CENTURA Reactor) 는 고급 반도체 장치 제조를 위한 효율적이고 안정적인 플라즈마 에치 기능을 제공하는 업계 선두주자가 되었습니다. 이 고성능 원자로 (HPR) 는 오늘날 가장 고급적이고 복잡한 반도체 소자 제품의 수요에 맞게 조정되었습니다. 이 원자로의 독보적인 설계와 기술적 능력은 "에치 (etch) 성능 '과" 정확도' 를 제공함으로써 기업들은 다양한 어플리케이션을 위한 고품질 제품을 생산할 수 있습니다.