판매용 중고 STEAG / MATTSON / AST Helios #293593150

STEAG/MATTSON/AST Helios는 반도체 장치, 박막 및 나노 기술과 같은 응용 분야에 사용되는 빠른 열 프로세서 (RTP) 입니다. 이 장비는 질소 또는 건조한 산소 대기를 사용하여 고온에서 샘플을 빠르게 가열합니다. 이 시스템은 온도, 압력, 가스 흐름 속도 (Gas Flow Rate) 와 같은 중요한 매개변수를 모니터링하는 챔버 전체에서 센서로 고급 프로세스 제어를 제공합니다. AST Helios는 4 인치 단일 웨이퍼 서보 트레이를 갖춘 개방형 플랫폼 설계로, 챔버 전체에서 균일 한 열 전달이 가능합니다. STEAG Helios는 열 주기 시간을 10 초까지 단축하여 여러 샘플을 동시에 빠르고 정확하게 처리 할 수 있습니다. 차폐 된 내부 및 외부 라이너를 사용하여 물질 오염 및 가스 제거를 방지합니다. Helmios는 또한 열적 균일성 및 표면 접착력을 향상시키기 위해 미리 가열 된 비 반응성 석영 챔버를 사용합니다. 이 장치는 실온에서 1050 ° C (1922 ° F) 까지 정확한 온도 조절을 제공하며 최대 ± 1 ° C (± 1.8 ° F) 의 정확도를 제공합니다. 사용자는 최대 40 개의 열 레시피를 프로그래밍할 수 있으며, 설정된 포인트/홀드 타임으로 최대 5 개의 실시간 모드 작업에 액세스할 수 있습니다. 이 기계는 또한 대부분의 반도체 산업 소프트웨어 플랫폼을 지원하도록 설계된 유니버설 컨트롤러 인터페이스 (Universal Controller Interface) 를 갖추고 있으며 직관적이고 사용하기 쉬운 그래픽 사용자 인터페이스를 갖춘 14 인치 디스플레이를 갖추고 있습니다. Helios는 통합 프로세스 모니터링 피드백 시스템과 최대 4.5 Torr의 진공 등급을 사용하여 설계되었습니다. 또한 0.02 토르/민 (Torr/min) 의 저압 상승률을 가지고보다 정확한 레시피 개발을 가능하게합니다. 매트슨 헬리오스 (MATTSON Helios) 는 비상 사태가 발생할 경우 전체 도구를 중지하는 컷오프 (cut-off) 스위치와 같은 고급 안전 기능도 제공합니다. STEAG/MATTSON/AST Helios는 기능, 유연성 및 빠른 난방 기능으로 인해 반도체 처리 응용 프로그램에 적합합니다. 이 공정 은 복잡 한 공정 을 처리 할 수 있으며, 온도 와 압력 을 정확 히 제어 할 수 있으며, 전세계 의 주요 "반도체 '기술 연구" 센터' 로부터 승인 을 받았다.