판매용 중고 STEAG / MATTSON / AST CS 100 #293729355
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ID: 293729355
Rapid Thermal Annealing (RTA) system
No vacuum system
Material used: Gas
Gas configuration: N2.
STEAG/MATTSON/AST CS 100은 고급 처리 기술을 위해 반도체 산업에서 일반적으로 사용되는 최첨단 고속 열 프로세서입니다. 이 혁신적인 도구는 반도체 웨이퍼에 정밀한 열 처리를 제공하기 위해 고안되었으며, 효율성과 정확도가 높은 어닐링 (annealing), 산화 (oxidation), 확산 (diffusion) 과 같은 중요한 프로세스를 가능하게합니다. AST CS 100은 반도체 제조 장비 공급 업체 인 STEAG (STEAG) 가 개발 한 최첨단 AST 시리즈 고속 열 처리 시스템의 일부입니다. STEAG CS 100 고속 열 프로세서 (Rapid Thermal Processor) 의 핵심에는 고급 난방 기술이 있으며, 이를 통해 최대 고온의 반도체 웨이퍼를 빠르고 균일 하게 가열 할 수 있습니다. 이 장비에는 여러 가열 구역 (heating zone) 과 정확한 열 센서 (thermal sensor) 를 포함한 고급 온도 조절 메커니즘이 장착되어 있어 웨이퍼 표면의 온도 조절과 균일성이 단단합니다. 이러한 제어 수준은 원하는 프로세스 결과를 달성하고, 제작된 반도체 장치의 품질 (Quality) 과 신뢰성을 유지하는 데 필수적입니다. MATTSON CS 100은 열처리 중 프로세스 대기를 정확하게 제어 할 수있는 정교한 가스 전달 시스템 (gas delivery system) 을 갖추고 있습니다. 이것 은 산소, 질소, 가공 "가스 '와 같은" 가스' 를 가공 실 에 도입 시켜 산화, 질화, 부화 와 같은 특정 한 열 과정 을 촉진 시킨다. 이 장치는 또한 견고한 진공기를 갖추고 반도체 웨이퍼 (wafer) 의 고온 처리에 도움이 되는 깨끗하고 통제된 환경을 조성합니다. CS 100 고속 열 프로세서 (Rapid Thermal Processor) 의 주요 장점 중 하나는 유연성과 확장성으로, 반도체 제조업체가 다양한 프로세스 요구사항에 이 툴을 적용할 수 있게 해줍니다. 이 자산은 표준 150mm 및 200mm 웨이퍼, 맞춤형 기판 등 다양한 웨이퍼 크기를 처리 할 수 있습니다. 또한 STEAG/MATTSON/AST CS 100은 다른 프로세스 레시피와 열 프로파일을 수용 할 수 있으므로 반도체 산업의 다양한 응용 분야에 적합합니다. AST CS 100 고속 열 프로세서 (Rapid Thermal Processor) 는 사용자에게 친숙한 인터페이스 및 소프트웨어 제어 모델로 설계되어 운영자가 열 처리 매개변수를 쉽게 프로그래밍하고 모니터링할 수 있도록 합니다. 이 장비는 실시간 온도 모니터링, 열 경사 (thermal ramping), 데이터 로깅 (data logging) 기능 등 고급 프로세스 제어 기능을 제공하여 정확한 프로세스 최적화 및 문제 해결을 지원합니다. 직관적인 소프트웨어 인터페이스 (Software Interface) 는 프로세스 데이터를 분석하고 프로세스 레시피를 최적화하여 생산성 및 생산성 향상을 위한 시각화 도구도 제공합니다. 결론적으로, STEAG CS 100 빠른 열 프로세서는 열 처리 응용 프로그램에서 반도체 제조업체의 탁월한 정밀도, 유연성, 제어를 제공하는 최첨단 도구입니다. 고급 난방 기술, 정확한 온도 조절, 가스 전달 시스템 및 사용자 친화적 인 인터페이스를 갖춘 MATTSON CS 100은 반도체 제작에서 중요한 프로세스 단계를 위한 안정적이고 다양한 솔루션입니다. CS 100 Rapid Thermal Processor의 기능을 활용하여, 반도체 제조업체는 생산 작업에서 탁월한 프로세스 성능, 생산량, 디바이스 품질을 얻을 수 있습니다.
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