판매용 중고 ZEISS A20 #9259775

ZEISS A20 Photoresist Equipment는 나노 스케일 photolithography 응용 프로그램에 사용되는 고성능, 모듈식 석판화 기계입니다. 고밀도 전자 (HDI) 회로와 메모리 칩 (메모리 칩) 의 생산과 고급 재료 연구에 이상적입니다. A20 은 해상도, 기능 캡처, 정확도 등을 통해 12 nm (최대 12nm) 까지 이미지 처리 기능을 제공하며, 최고 품질의 사양을 지닌 최고의 photolithography 시스템 중 하나입니다. ZEISS A20 장치에는 고급 이미징 옵틱과 고해상도 이미지를 위한 마이크로 패턴 생성기가 장착되어 있습니다. 이 기계에는 DFFA (Direct Exposure Fine Alignment) 도구와 직경이 6 "웨이퍼 및 기타 기질에서 연속 영상이 가능한 진공 노출 영역이 포함됩니다. 자동 제어 (Automated Control) 자산은 자동 웨이퍼 로딩 및 언로딩을 통해 높은 반복성과 향상된 주기 시간을 제공합니다. 또한, 직관적인 사용자 인터페이스를 통해 모델을 모든 사용자에게 쉽게 사용할 수 있습니다. 이 장비에는 생산의 정확성과 정밀도를 높이도록 설계된 많은 기능이 장착되어 있습니다. 기판에서 웨이퍼의 미세 정렬을위한 메타 단계를 포함합니다. 패턴 왜곡을 최소화하는 자동화된 기능 인식 시스템 그리고 소음 수준이 낮은 위치, 방향, 크기, 모양 정보를 표시하는 온보드 도량형 (on-board metrology) 장치를 갖춘 고성능 비교 현미경입니다. 또한 메타 스테이지 스캐닝 (meta-stage scanning) 기능을 통해 여러 위치를 신속하게 검사하여 최적의 이미징 결과를 얻을 수 있습니다. A20 도구는 다양한 저항 제제 (resist formation) 와 광범위한 공정 화학 (process chemistry) 을 사용할 수있는 유연성을 가지고 있습니다. 또한 스핀 코팅 (spin coating), 소프트 베이킹 (soft baking), 사전 이미징 (pre-imaging) 및 사후 이미징 (post-imaging) 과 같은 여러 프로세스 단계를 실행할 수 있습니다. 또한이 자산에는 아르곤 플루오 라이드, 크립톤 플루오 라이드 및 YAG 레이저 소스를 포함한 다양한 노출 소스가 있습니다. 전반적으로, ZEISS A20 Photoresist Model은 사용자에게 매우 정확한 마이크로 패턴화를 위해 가장 높은 해상도의 이미지와 정확도를 제공하는 고급 사진 촬영 장비입니다. 직접 이미징 및 기능 캡처, 자동 저항 코팅, 자동 비교 현미경, 온보드 도량형 등 다양한 기능을 갖추고 있습니다. 또한 6 인치 이상의 웨이퍼 (wafer) 와 더 큰 기판을 이미징 할 수 있으며 다양한 저항제 제화 및 화학 공정을 위해 설계되어 다양한 고급 리소그래피 (lithography) 실험을위한 강력하고 다목적 인 도구입니다.