판매용 중고 ZEISS A20 #9081688

ZEISS A20은 리소그래피 프로세스에 사용되는 포토 esist 장비입니다. 이 시스템은 반도체, 디스플레이 및 미세 전기 기계 시스템 (MEMS) 의 생산에서 패턴을 만드는 데 중요한 도구입니다. A20은 특허받은 액체 수준 정렬 기술을 사용하여 광학을 대상 기판에 정확하게 정렬합니다. ZEISS A20 장치에는 고정밀 4 축 동작 단계, 마스크 및 웨이퍼 단계, 스캔 및 스테퍼 모터가 포함됩니다. 4축 동작 단계는 리소그래피 프로세스 동안 컴포넌트의 정확한 동작을 보장합니다. 스캔 및 스테퍼 모터 (scan and stepper motor) 는 스테이지의 광학 요소를 이동하여 기판과 관련하여 정확하게 배치합니다. 마스크 및 웨이퍼 스테이지는 자동 교환 메커니즘을 통해 더 빠른 웨이퍼 교환을 허용합니다. A20은 고해상도 패턴화를 위해 설계되었으며, 높은 수치 조리개 (NA) 를 갖춘 독점적 인 광학 디자인이 특징입니다. 무접촉 레이저 정렬 장치 (contactless laser alignment machine) 를 사용하면 광학 경로에서 광학 컴포넌트를 보다 정확하게 배치할 수 있습니다. 이는 더 선형적인 사진 정의 가능한 패턴을 보장합니다. ZEISS A20에는 photolithography 프로세스 자동화 및 제어를위한 전체 소프트웨어 제품군이 포함되어 있습니다. 여기에는 자동 레시피 및 결과 최적화를 위한 확장 프로세스 제어가 포함됩니다. 이 소프트웨어에는 OPC, 리토 시뮬레이션 및 프로세스 최적화 알고리즘이 포함되어 있습니다. A20은 또한 KrF, ArF 및 EUV 리소그래피와 같은 광원을 사용합니다. 이 도구 는 반도체 처리 에 흔히 사용 되는 화학 물질, 광물질, 에찬트 와 호환 되도록 만들어졌다. ZEISS A20 포토 esist 자산은 고급 포토 리토 그래피 기술을 개발하는 데 필수적인 도구입니다. 고정밀도 컴포넌트 (high-precision component) 와 자동화된 기능을 통해 반도체 제조와 관련된 다양한 응용프로그램을 선택할 수 있습니다. A20 은 컴팩트한 디자인과 고성능 (고성능) 을 통해 정확한 패턴화 결과를 얻을 수 있는 비용 효율적인 선택입니다.