판매용 중고 WEIMENG 200 #9396582

WEIMENG 200은 석판 공정을 수행하도록 설계된 포토 esist 장비입니다. 첨단 리서치, 제조, 공정 개발 등을 위해 독자적으로 설계된 고성능 3 세대 포토레시스트 (photoresist) 시스템이다. 200 개는 다양한 수준의 해상도를 가진 다양한 포토레시스트를 사용하여 패턴을 형성 할 수 있습니다. 이 장치는 특히 미세 라인 및 고 토폴로지 기능의 생산에 적합합니다. 다양한 기능을 갖춘 멀티 레이어 머신 (multi-layer machine) 으로, 특정 요구 사항을 쉽게 충족할 수 있습니다. 바이멘 200 (WEIMENG 200) 은 화학 방출 제 (chemical release agent) 를 사용한다. photoresist 패턴의 정렬을 제어하기 위해 도구는 자동 정렬 메커니즘을 사용합니다. 이 메커니즘은 저전력 레이저 (low-power laser) 를 사용하여 기판의 정확한 위치를 측정한 다음 마스크를 적절히 이동합니다. 조명을 위해 200에는 스펙트럼 제어 필터 기술이 장착되어 있습니다. 이 기능을 사용하면 빛의 색상, 강도, 정확한 파장을 프로세스 요구사항에 맞게 조정할 수 있습니다. 이 자산에는 인사이트 (in situ) 처리 기능도 통합되어 있어 여러 도구를 동시에 실행할 수 있습니다. 이 모델에는 기존 접촉, 근접 및 몰입 노출 시스템을 포함한 여러 노출 조건이 있습니다. 이 장비는 또한 HAR (High Aspect Ratio) 노출이 가능하며, 이를 통해 사용자는 광범위한 저항력으로 매우 정밀한 패턴과 기능을 만들 수 있습니다. 전반적으로 WEIMENG 200은 뛰어난 신뢰성, 정확성 및 비용 효율성을 제공합니다. 반도체 제작, 마이크로일렉트로닉스 (microelectronics), 생명공학 (biotechnology) 등의 분야에서 하이엔드 애플리케이션을 위한 최적의 선택입니다.