판매용 중고 VPT Argus 58 #9199501
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ID: 9199501
Optical coater, 58"
Chamber:
Width: 58"
Depth: 28"
Water-cooled chamber
Stainless steel
(2) Opening doors
Integrated stand
Vacuum pumping system:
Pumping system for chamber includes:
EDWARDS GXS 160/1750 Dry pump and blower package
(2) PFEIFFER ALCATEL ATP 2804 Maglev turbo-pumps
CTI CT10 Cryo pump
ADIXEN ALCATEL ADS-501 Dry pump \ blower package
Substrate fixture system:
(6) Diameter planets, 16"
Process system:
(3) MAGNETRON DC Sputters, 8"
(3) ADVANCED ENERGY 10 kW power supplies
(2) Sputtering cathodes co-sputtering function
(3) SIERRA APPLIED SCIENCE INC Sputtering cathode, target 8" diameter (203.2 mm)
CCR Cobra DN 400 RF-Plasma Source, 16"
ADVANCED ENERGY 13.56 MHz RF Power supply 5.5 kW
(4) VPT 2 kW Quartz lamp heaters
Type J thermo couple probe
INFICON XTC-3 With (6) crystal heads
Ion current monitoring: Faraday cup
Power systems includes:
Integrated power distribution enclosure
PC \ PLC Based control system:
Factory talk Human Machine Interface (HMI)
ALLEN BRADLEY Logix PLC controller
Utility requirements:
Power supply: 208 VAC, 65 kVA, 50/60 Hz.
VPT Argus 58은 웨이퍼 제작 및 마이크로 리토 그래피 응용 프로그램을 위해 설계된 포토 esist 장비입니다. 이 시스템은 기존 도구의 최대 5 배에 이르는 해상도로 HD 이미지를 제작할 수 있으며, 높은 반복 가능성과 초저속 (ultra-low) UV 노출 시간을 제공합니다. 이 장치는 저저압 압력과 낮은 UV 노출 수준에서 작동 할 수 있으며, 마이크로 스케일 (micro- scale) 및 나노 스케일 (nanoscale) 기능을 정확하게 패턴화할 수 있습니다. 이 기계는 헬륨-네온 레이저 (helium-neon laser) 를 사용하여 감광 분자가 제어 된 패턴으로 웨이퍼에 침착하도록 유도합니다. 이것은 매우 정확하고 일관된 패턴을 산출하며, 이는 마이크로 리토 그래피 응용 프로그램에 중요합니다. 이 도구는 photolithography, laser patterning, resist coating 등 다양한 작업에 적합합니다. 에셋에는 웨이퍼 정렬을위한 12 인치 스테퍼/스캐너 및 정확한 저항 증착이 포함됩니다. 또한 정밀한 빔 제어를 위해 컴퓨터 제어 레이저 빔 스팟 크기 (computer-controlled laser beam spot size) 모델과 웨이퍼 표면을 가로 질러 저항을 스캔하는 소프트웨어 기반 빔 스캐닝 장비가 장착되어 있습니다. 이를 통해 저항 증착에 대한 서브 미크론 수준의 해결이 가능합니다. Argus 58에는 헬륨-네온 슈퍼 해상도 사분면 (helium-neon super-resolution quadrant) 기능과 같은 선택적 기능도 포함되어 있으며, 이 기능으로 패턴이 10äm 미만의 간격과 함께 결합 될 수 있습니다. 웨이퍼를 정확하게 정렬하는 자동 광학 중심 시스템; 감광 레이어의 더 나은 등록을위한 크로스 웨이퍼 동기화 기능; 정확한 패턴화를 위한 Opticlock 장치. 전반적으로 VPT Argus 58은 고화질 마이크로 리토 그래피 프로세스를위한 신뢰할 수있는 도구입니다. 이 기능을 사용하면 정확하고 정확한 패턴화를 통해 웨이퍼를 생산하고 생산성을 높일 수 있습니다. "머신 '은 사용 하기 쉽고 많은 수 의 광자재 와 호환 된다. 아르 거스 58 (Argus 58) 은 모든 반도체 시설에 귀중한 도구이며, 가장 진보 된 집적 회로 장치를 생산하기위한 필수품입니다.
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