판매용 중고 VON ARDENNE Pia Nova #9279044

VON ARDENNE Pia Nova는 진공 코팅 장비 제조업체 인 VON ARDENNE에서 개발 한 포토 esist 장비입니다. 반도체 웨이퍼에서 나노 구조 생산에 사용되는 포토 esist (photoresist) 의 한 유형입니다. 피아 노바 (Pia Nova) 시스템은 고급 재료와 생산 기술의 조합을 사용하여 웨이퍼에 포토 esist의 초고해상도 증착을 가능하게합니다. VON ARDENNE Pia Nova 포토 esist 유닛은 "CSD (Creationthrough Subtractive Deposition)" 라는 독점 기술을 사용합니다. 이 로 말미암아 광전술사 는 최소 한 "폐기물 '과 매우 얇고 균일 한 침착물 로 퇴적 될 수 있다. CSD 프로세스는 여러 층의 박막으로 구성된 "부모 (parent)" 스택 된 광필주의 층의 사용을 포함하며, 첫 번째는 PMMA (poly-methylmethacrylate) 의 박막이다. 그런 다음, 이 부모 "필름 '을" 플라즈마' 광선 에 노출 시켜서 원하는 "나노 '구조 를 정의 한다. 에치 공정 후, 피아 노바 (Pia Nova) 기계는 에칭 된 나노 구조를 포토 esist 레이어의 얇고 균일 한 층으로 채울 수있다. 배치될 저항층은 사용자가 결정하며, 폰 아르덴 (VON ARDENNE) 피아 노바 (Pia Nova) 도구는 저항층을 얇은 연속 레이어 또는 더 작고 두꺼운 여러 계층에 배치할 수 있습니다. 여러 층의 포토레지스트 (photoresist) 를 배치하는 기능을 통해 고해상도 컴포넌트의 복잡한 설계 및 제작이 가능합니다. Pia Nova 자산은 특허 트레이 관련 처리 모델을 사용하여 강력하고 정확한 저항 응용 프로그램을 제공합니다. 이 "트레이 '는 과산화물 과 환경 친화적 인 물질 에 내성 이 있으며, 이것 은 그것 을 광범위 한 산업 분야 에서 사용 할 수 있다는 것 을 의미 한다. 또한 진공 증착 기술 (vacuum deposition technology) 을 사용하여 포토 esist의 증착이 웨이퍼 전체에서 균등하고 일관성을 보장합니다. 마지막으로, VON ARDENNE 피아 노바 (Pia Nova) 장비는 완전한 열 제어를 제공합니다. 즉, 응용 프로세스 동안 사용자가 저항 레이어의 온도를 정확하게 제어 할 수 있습니다. 이것 은 "포토레지스트 '층 이 전체" 웨이퍼' 전체 에 걸쳐 일관성 있고 심지어 두께 로 증착 되어 "나노 '구조 의 질 과 정확도 를 더욱 높여준다. 피아 노바 (Pia Nova) 포토레스 시스템 (photoresist system) 은 반도체 산업을위한 고품질 나노 구조를 생산할 수있는 정확하고, 신뢰할 수 있고, 경제적인 방법을 제공하는 고급 장치입니다. 폰 아르덴 (VON ARDENNE) 피아 노바 머신 (Pia Nova machine) 은 고급 재료와 생산 기술의 조합으로, 나노 구조를 생산하기에 매우 정확하고 정확합니다.