판매용 중고 VERTEQ VPA-1987 #9165582

VERTEQ VPA-1987 Photoresist Equipment는 microfabrication 응용 프로그램에 사용되는 컴퓨터 제어, 고해상도 진공 처리 가능 photoresist 시스템입니다. 이 장치는 고급 마이크로 리토 그래피 프로세스를 사용하여 0.05 미크론 (micro-scale feature) 크기와 구조를 0.05 미크론 작게 노출하고 처리 할 수 있습니다. 4.4 인치 직경의 웨이퍼 스테이지를 갖춘 VPA-1987은 자동화된 웨이퍼 처리 및 로딩을 제공하여 정확하고 반복 가능한 노출 및 처리 결과를 제공합니다. 기계에서의 완전 자동화 된 웨이퍼 플립 메커니즘은 긴 트랙으로 8 인치 웨이퍼를 처리 할 때에도 저항 필름 (resist film) 과 기판을 정확하게 정렬합니다. 웨이퍼 스테이지는 사각형, 사각형, 원 또는 패턴을 최대 4 인치 너비로 처리하는 데 사용될 수도 있습니다. 이 도구에는 0.005 미크론 이상의 해상도의 고해상도 접촉 인쇄 헤드가 포함되어 있습니다. 고급 자동 초점 기능은 기판에서 정확하고 정확한 인쇄를 보장합니다. 내장 모터 셔터 자산은 균일 한 노출 처리량과 정확성을 제공합니다. 웨이퍼 틸트 측정 및 조정을위한 교정 된 레이저 간섭계도 포함됩니다. 이 모델은 광범위한 긍정적, 부정적인 저항을 사용하며, 유연성을 통해 새로운 저항 (resist) 재료를 수용합니다. 또한 VERTEQ VPA-1987은 0.1 초에서 10 분 사이의 가변 처리 시간과 -20 ° C ~ 150 ° C의 온도 설정을 제공합니다. 프로그래밍 가능한 스위칭 기능을 통해 장비는 비교할 수없는 속도로 다양한 작업을 수행 할 수 있습니다. photoresist 시스템에는 컬러 모니터와 강력한 내장 소프트웨어가 장착되어 있습니다. 이 옵션을 사용하면 노출된 이미지의 매개변수 (parameter) 와 한 번에 처리할 수 있는 웨이퍼 수 (wafer) 를 설정할 수 있습니다. 처리를 실행하는 동안 화면에서 결과를 모니터링할 수 있습니다. VPA-1987 (VPA-1987) 은 위치의 정확성과 신뢰성이 우수하며 강력하고 신뢰할 수있는 포토리스 (photoresist) 유닛으로, 사용자가 쉽게 복잡한 미세 구조를 만들 수 있습니다. 정밀 노출, 온도 조절, 다중 웨이퍼 처리 기능과 같은 고급 기능과 함께 VERTEQ VPA-1987 Photoresist Machine은 microfabrication 응용 프로그램에 이상적인 도구입니다.