판매용 중고 VERTEQ SuperClean 1600 #9243728

VERTEQ SuperClean 1600은 photolithography 산업에 사용하도록 설계된 최첨단 photoresist 장비입니다. 이 "시스템 '은 여러 가지" 포토리스토그래피' 공정 에 사용 되는 광전자 소재 에 대해 높은 수준 의 청소 를 하기 위하여 고급기술 의 독특 한 혼합 을 이용 한다. SuperClean 1600은 고압 온수 스프레이 적용으로 시작하는 3 단계 프로세스를 사용하여 작동합니다. 이 수용액은 가열되어 감광제 (photoresist) 표면에서 입자와 유기 잔기 (organic residue) 를 제거하는 가열된 물과 세제의 흐름을 생성한다. 그 후, "세제 '에 의하여 처음 에 용해 된 오염 물질 과 잔류 물 을 제거 하는" 린싱' 과정 이 뒤따른다. 마지막 청소 단계 는 특수 "마이크로 '파" 플라즈마' 기술 로 "포토레지스트 '의 표면 을 더욱 깨끗 하게 하는 것 이다. 이 기술은 자외선 (UV light) 과 기압 (air pressure) 을 사용하여 불순물과 입자를 적극적으로 산화시켜 유기 물질의 수준을 줄이고 표면 청결도를 높입니다. VERTEQ SuperClean 1600 (VERTEQ SuperClean 1600) 은 고도의 고급 장점으로, 기존의 포토 esist 클리닝 기술에 비해 많은 이점을 제공합니다. 이 장비 는 광전물질 표면 을 손상 시킬 수 있는 열악 한 화학 물질 이나 용제 를 사용 할 필요 가 없으며, 광전물질 (photoresist) 의 훌륭 한 철저 함 과 정밀 청소 (precision cleaning) 를 제공 한다. 또한, 정밀 청소 프로세스는 다양한 유형의 재료를 수용하도록 쉽게 보정할 수 있으며, 컴팩트하고 휴대용 (compact, portable) 크기는 설치와 유연성을 용이하게 합니다. 마지막으로 수퍼클린 (SuperClean) 1600 은 손상의 위험을 줄일 수 있는 안전 기능과 손쉬운 운영 및 유지 관리를 위한 사용자 친화적 제어 기능을 갖추고 있습니다. 이 기계 는 각기 다른 광소시스트 (photoresist) 재료 를 위해 특별 히 개발 된 최적화 된 청소 (cleaning) "프로파일 '로 인하여 우수 한 청소 결과 를 제공 해 주며, 이것 은 복잡 한" 포토리스토그래피' 무늬 를 제작 하는 데 있어서 더 높은 수준 의 정밀도 를 제공 한다. 따라서 VERTEQ SuperClean 1600은 안정적이고 효율적인 포토레시스트 청결성 (photoresist cleanliness) 및 우수한 최종 제품을 보장하는 이상적인 솔루션입니다.